1.一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其结构包括电机（1）、支架（2）、主转轴（3）、调节杆（4）、吸盘（5）、水平调节装置（6）、支撑圆盘（7），其特征在于：所述支架（2）下方设有电机（1），所述电机（1）与主转轴（3）底部相连接，所述主转轴（3）顶部贯穿支架（2）并通过调节杆（4）与吸盘（5）相连接，所述支撑圆盘（7）设在支架（2）上方并与之相平行，所述支撑圆盘（7）与主转轴（3）垂直焊接在一起，所述吸盘（5）底部设有水平调节装置（6）。

2.根据权利要求1所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述水平调节装置（6）包括伸缩杆（8）、外磁铁（9）、滑轨（10）、水平检测盒（11），所述水平检测盒（11）顶部与吸盘（5）底部贴合并连接在一起，所述水平检测盒（11）为圆形，所述水平检测盒（11）的外侧设有滑轨（10），所述滑轨（10）内设有外磁铁（9），所述外磁铁（9）侧面与伸缩杆（8）顶部相配合，所述伸缩杆（8）底部与支撑圆盘（7）相连接。

3.根据权利要求2所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述外磁铁（9）外侧面设有凹槽（90），所述伸缩杆（8）顶部设在凹槽（90）内。

4.根据权利要求1所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述支撑圆盘

（7）上设有圆形滑槽（71），所述滑槽（71）内设有滑块（72），所述滑块（72）与伸缩杆（8）底部相连接。

5.根据权利要求2所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述水平检测盒（11）包括内磁铁（12）、盒体（13）、微电机（14）、移动杆（15）、液位传感器（16）、中心轴（17），所述盒体（13）内顶部安装有微电机（14），所述微电机（14）与设在下方的中心轴（17）相连接，所述中心轴（17）与移动杆（15）垂直连接，所述移动杆（15）的两端分别连接有内磁铁（12）、液位传感器（16），所述内磁铁（12）与盒体（13）内壁相贴合。

6.根据权利要求5所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述水平检测盒（11）内填充有水。

7.根据权利要求1所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述主转轴（3）顶部设有球形槽（30）。

8.根据权利要求1所述的一种光刻机用晶圆片涂胶系统，其特征在于：所述调节杆（4）底部设有球体（40），所述球体（40）设在球形槽（30）内部。