1.一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，包括机体(10)，其特征在于：所述机体(10)中设置有控制模块，所述机体(10)的上侧壁固定设置有第三固定块(14)，所述第三固定块(14)的右端面固定设置有第四固定块(17)；

吸盘加持机构(A01),所述吸盘加持机构(A01)位于所述机体(10)的上方，所述吸盘加持机构(A01)用与对晶圆进行吸盘加持；

单口转换机构(A02)，所述单口转换机构(A02)位于所述第三固定块(14)的右侧壁，所述单口转换机构(A02)位于所述吸盘加持机构(A01)的上方，所述单口转换机构(A02)用于出料；

回收机构(A03)，所述回收机构(A03)位于所述机体(10)的内部，所述回收机构(A03)用于会回收耐光材料进行二次利用。

2.根据权利要求1所述的一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，其特征在于：所述吸盘加持机构(A01)包括开设在所述机体(10)中的第一槽，所述第一槽的左侧壁开设有下排气孔(63)，所述第一槽中设置有中心杆(65)，所述中心杆(65)的外圆周侧壁套设有挡板(66)，所述挡板(66)的上端面固定设置有第一固定块，所述第一固定块位于所述第一槽的左侧壁，所述第一固定块开设有第一通孔，所述第一通孔与所述下排气孔(63)对齐，所述中心杆(65)的左右两侧固定设置有两个左右对称的下电动块(64)，所述机体(10)开设有下排风槽(67)，所述下排风槽(67)与所述第一槽连通，所述机体(10)的右侧壁固定设置有C形出气块(28)，所述C形出气块(28)开设有通气槽，所述通气槽与所述下排风槽(67)连通。

3.根据权利要求1所述的一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，其特征在于：所述吸盘加持机构(A01)还包括固定设置在所述机体(10)上侧壁上的圆环，所述圆环的内部设置有风机(70)，所述中心杆(65)的外圆周侧面沿所述中心杆(65)的圆周方向均匀设置有多个第二扇叶(73)，所述第二扇叶(73)位于所述圆环内，所述中心杆(65)的左右两侧对称设置有两个限位块(72)，所述限位块(72)位于所述第二扇叶(73)的下方，所述机体(10)的上端面设置有两个左右对称的连接杆(68)，两个所述连接杆(68)相互靠近的一侧与固定设置有两个左右对称的传动杆(69)，两个所述传动杆(69)分别向圆环方向延伸且贯穿所述圆环的外侧壁，两个所述传动杆(69)分别开设有一个下限位槽(71)，所述限位块(72)在所述下限位槽(71)中滑动，所述圆环的上部外圆周侧面套设有支撑块(32)，所述支撑块(32)的下端面与所述连接杆(68)的上端面固定连接，所述支撑块(32)开设有第六槽(33)，所述支撑块(32)的上端面均匀固定设置有三个第五固定块(34)，每个所述第五固定块(34)开设有第七槽(35)，每个所述第七槽(35)与所述第六槽(33)连通，每个所述第五固定块(34)的上端面固定设置有吸盘(36)，所述支撑块(32)开设有进气孔(37)，所述进气孔(37)与所述第六槽(33)连通，所述支撑块(32)开设有L形通气槽(39)，所述L形通气槽(39)与所述进气孔(37)连通，所述L形通气槽(39)中固定设置有连接块(38)，所述L形通气槽(39)的下侧壁开设有下出料槽(40)，所述下出料槽(40)与所述L形通气槽(39)连通，所述支撑块(32)开设有第一环槽，所述第一环槽中滑动设置有两个左右对称的侧边清理组件。

4.根据权利要求3所述的一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，其特征在于：所述清理组件包括滑动在所述第一环槽中的第一滑块(41)，所述第一滑块(41)开设有第一滑槽，所述第一滑槽的侧壁固定设置有两个前后对称的第九固定块(48)，两个所述第九固定块(48)中转动设置有弧形杆，所述弧形杆开设有弧形槽(43)，所述弧形槽(43)的后侧壁开设有上出料槽(53)，后侧所述第九固定块(48)开设有扇叶槽(49)，所述扇叶槽(49)与所述上出料槽(53)连通所述扇叶槽(49)与所述第四L形槽(52)连通，所述扇叶槽(49)中设置有第三轴(50)，所述第三轴(50)的外圆周侧壁沿所述第三轴(50)的圆周方向均匀设置有多个第一扇叶(51)，所述第一扇叶(51)与所述弧形杆固定连接，所述第四L形槽(52)与所述L形通气槽(39)连通，所述弧形杆的远离所述支撑块(32)的一端固定连接有第八固定块(45)，所述第八固定块(45)远离所述支撑块(32)的一端面固定设置有第七固定块(44)，第八固定块(45)的上端面固定设置有刮板(46)，所述刮板(46)与所述第七固定块(44)的靠近所述支撑块(32)的一端面固定连接，所述第八固定块(45)开设有第八槽(47)所述第八槽(47)与所述弧形槽(43)连通。

5.根据权利要求1所述的一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，其特征在于：所述单口转换机构(A02)包括开设在所述第四固定块(17)中的耐光材料槽(20)，所述第四固定块(17)开设有水槽(24)，所述第四固定块(17)的下侧壁转动设置有第一轴(18)，所述第一轴(18)外侧套设有齿环(19)，所述第一电机(21)的右侧壁固定设置有第一电机(21)，所述水槽(24)的左侧壁固定设置有喷水电机，所述第四固定块(17)开设有两个左右对称的通气孔(16)，所述通气孔(16)分别于所述耐光材料槽(20)和所述水槽(24)连通。

6.根据权利要求5所述的一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，其特征在于：所述单口转换机构(A02)还包括开设在所述第四固定块(17)中的第二槽，所述第四固定块(17)开设有第三槽，所述第二槽中转动设置有齿轮(22)，所述第二槽的下端面开设有转动槽(25)，所述转动槽(25)与所述第三槽连通，所述转动槽(25)中转动设置有第二轴(23)，所述第二轴(23)的上端面与所述齿轮(22)的下端面固定连接，所述第二轴(23)的外圆周侧面套设有扭簧,所述扭簧与所述齿轮(22)的下端面转动块(26)的上端面固定连接，所述第二轴(23)的外圆周侧面套设有转动块(26)，所述转动块(26)开设有第四槽，所述第四槽中固定设置有出料头(27)，所述出料头(27)的右端面固定设置有第十固定块(54)，所述第十固定块(54)开设有转动槽(55)，所述转动槽(55)向左延伸贯穿所述出料头(27)的侧壁，所述第四固定块(17)开设有两个左右对称的限位槽(59)，转动槽(55)前后侧壁之间转动设置有第四轴(56)，所述第四轴(56)连接有绳(57)的一端，所述绳(57)的另一端与所述齿轮(22)固定连接，所述第四轴(56)套设有回转块(60)，所述回转块(60)的外圆周侧面沿所述回转块(60)的外圆周侧面均匀设置有多个冲击板，所述第四固定块(17)开设有两个前后对称的第五槽，所述第五槽与相对应的所述限位槽(59)连通，所述第五槽中滑动设置有齿条(58)，所述第四轴(56)的外圆周侧面套设有两个前后对称的上齿轮(61)，两个所述上齿轮(61)分别于对应的齿条(58)啮合，两个所述上齿轮(61)相互靠近的一侧开设有第一开口，所述回转块(60)的前后两侧对称设置有与所述第一开口对接的两个第二固定块，所述转动槽(55)的槽底固定设置有第一电磁滑块，所述第一电磁滑块上滑动设置有第二电磁滑块，所述第二电磁滑块上固定设置有C形块(62)，所述C形块(62)内侧与所述回转块(60)的前后侧面抵接。

7.根据权利要求1所述的一种能够清理晶圆多余涂抹材料并二次利用的晶圆涂覆系统，其特征在于：所述回收机构(A03)包括开设在所述机体(10)中的第二环槽(29)，所述第二环槽(29)的下端面开设有第三环槽(30)，所述第三环槽(30)的下端面开设有第四环槽(31)，所述第四环槽(31)坐高右低，所述第四环槽(31)左部的下端面开设有第二开口，所述第二开口中设置有电动门，所述机体(10)开设有第一L形槽(11)，所述第一L形槽(11)与所述第四环槽(31)连通，所述第三固定块(14)中开设有第二L形槽(12)，所述第二L形槽(12)与所述第一L形槽(11)连通，所述第二L形槽(12)中固定设置有泵(13)，所述第四固定块(17)中开设有第三L形槽(15)，所述第三L形槽(15)与所述耐光材料槽(20)连通。