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专利号: 201810379202X
申请人: 黎明职业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-02-23
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种半导体白光发光二极管,依次包括衬底、第一导电型半导体、多量子阱、在多量子阱内成型的多个V形坑(V-pits)和第二导电型半导体,其特征在于:多个所述V形坑(V-pits)由多组相邻设置的第一V形坑和第二V形坑组成,第一V形坑发出红光,其内具有非掺杂的ZnO量子点、以及生长在ZnO量子点上方的CdSySe1-y/ZnO核壳结构纳米柱,其中,CdSySe1-y/ZnO核壳结构纳米柱的S组分0≤y≤1;第二V形坑发出绿光,其内具有非掺杂的ZnO量子点、以及生长在ZnO量子点上方的ZnSzSe1-z/ZnO核壳结构纳米柱,其中,ZnSzSe1-z/ZnO核壳结构纳米柱的S组分0≤z≤1;第一V形坑和第二V形坑之间具有发出蓝光的多量子阱;从而形成红光、绿光和蓝光混合的白光发光二极管。

2.根据权利要求1所述一种半导体白光发光二极管,其特征在于:所述的CdSySe1-y/ZnO核壳结构纳米柱掺杂Mg,所述ZnSzSe1-z/ZnO核壳结构纳米柱掺杂Mg,使V形坑(V-pits)的空穴浓度大于1018cm-3。

3.根据权利要求1所述一种半导体白光发光二极管,其特征在于:所述的第一V形坑和第二V形坑的开口尺寸为50~500nm,所述的CdSySe1-y/ZnO核壳结构纳米柱和ZnSzSe1-z/ZnO核壳结构纳米柱的直径为40~400nm,小于V形坑(V-pits)的开口尺寸。

4.根据权利要求1所述一种半导体白光发光二极管,其特征在于:所述的多量子阱为InxGa1-xN/GaN量子阱,In组分0.15

5.根据权利要求1所述一种半导体白光发光二极管,其特征在于:多个所述V形坑(V-pits)在多量子阱区域均匀分布设置。