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专利号: 2021100487192
申请人: 浙江理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 一般的物理或化学的方法或装置
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种降膜脱挥器,包括立式塔体(20)、连接于立式塔体(20)上端的封头(3)和下端的底壳(13)、物料进口(1)、物料出口(14),塔体(20)上设有真空抽气口(21),其特征在于:封头(3)上部设有物料进口(1),封头(3)内有物料箱体(25),物料箱体(25)底板为布料板(5),塔体(20)上设有至少两个倾斜波纹板降膜元件(7),按照熔体流动方向的相邻两个降膜元件(7)间隔交错排列于立式塔体(20)对侧,布料板(5)上为塔体(20)最上部的相向的降膜元件(7)分配有布膜结构,最后一个降膜元件(7)下方在塔体(20)两侧分别设有一个倾斜向下的波纹板导流件(18),底壳(11)底部设有物料出口(14)。

2.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:降膜元件(7)倾斜朝下,一端与立式塔体(20)壁面相连,另一端顶点越过塔体(20)中轴线,降膜元件(7)与其上方相连的塔体(20)壁面形成的夹角为10~80°。

3.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:降膜元件(7)凹槽下方有相连的支撑件(8),降膜元件(7)与其相连的塔体(20)壁面和支撑件(8)形成一个锐角三角形或直角三角形结构。

4.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:相向两侧的降膜元件(7)上的波纹结构一一对应,同侧相邻两个降膜元件(7)垂直间距为50~3000mm,倾斜板式降膜元件(7)的水平方向的投影高度20~1500mm。

5.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:所述降膜元件(7)为至少有两个凹槽流道70的倾斜波纹板结构,两凹槽的间距10~500mm,凹槽深度为5~100mm,每个降膜元件(7)上的凹槽流道70个数为2~100个。

6.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:布料板(5)与封头(3)壁面相接的夹角为10~90°,布料板(5)上为下方对应的降膜元件(7)凹槽设有1~20个布膜孔(51),布膜孔(51)宽为2~50mm,布膜孔(51)孔缝和下方降膜元件的沟槽型流道(70)对应,用于物料从物料箱体(25)中进入其下方的降膜元件(7)中的沟槽,以此开始降膜流动脱挥过程。

7.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:两侧的导流件(18)不相连,且导流件(18)上的波纹凹槽结构与降膜元件(7)一致了,顶端不超过降膜脱挥器中轴线。

8.如权利要求1所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:反应器设传热系统和保温系统,封头(3)上有封头夹套(4)、封头夹套热媒进口(2)和封头夹套热媒出口(24);塔体(20)上有塔体夹套(19)、塔体夹套热媒进口(6)和塔体夹套热媒出口(17),底壳(11)有底壳夹套(12)、底壳热媒进口(16)和底壳热媒出口(13),底壳(11)内还设有搅拌桨(15)。

9.如权利要求3和所述的一种降膜脱挥器,其特征在于:塔体(20)上设有塔体夹套(19),所述降膜元件(7)和支撑件(8)均为空心结构,所述降膜元件(7)和支撑件(8)的空心结构彼此连通并和塔体夹套连通,形成热媒流动通道。

10.一种降膜脱挥器的降膜元件,其特征在于:所述降膜元件(7)为至少有两个凹槽流道的倾斜波纹板结构,两凹槽的间距L1为10~500mm,凹槽深度L2为5~100mm,每个降膜元件(7)上的凹槽个数为2~100个。