1.一种熔融缩聚反应器，包括封头（1）、物料室（3）、与物料室下端相连的立式壳体（5）以及底壳（8），反应器设有进料管（12）、出料口（81）和真空脱气口（51），物料室与进料管连通；其特征在于：所述立式壳体（5）内部垂直设置有至少一组降膜元件，所述降膜元件是管件与平板连接而成的组合式降膜元件（4），相邻两管之间连有平板，管件与平板围合成敞开式内凹竖直降膜流道（41）；所述组合式降膜元件（4）的管件与平板的连接方式包括管件（412）与平板（411）依次交替并列连接，以及将管件竖直安装在平板表面；

熔融缩聚反应器设有传热系统，立式壳体（5）和底壳（8）外围均安装有保温传热通路，通路内保温介质循环流通；熔融缩聚反应器设有与外界连通有管道的第一热媒室和第二热媒室，两者与组合式降膜元件（4）连通构成反应器内部热媒传热循环流通路径；

所述组合式降膜元件（4）的管件内部设有热媒循环传热路径，组合式降膜元件的管件（412）与熔融缩聚反应器上的第一、第二热媒室相通；热媒经由其中一个热媒室均匀流入组合式降膜元件的管件内部，再由管件流入另一个热媒室，实现降膜元件处热媒的循环流动。

2.如权利要求1所述的一种熔融缩聚反应器，其特征在于：所述物料室（3）下底板为布膜板（31）且设有布膜孔（311），紧邻布膜板下方垂直设置有至少一组组合式降膜元件（4），组合式降膜元件上的每条降膜流道（41）均至少对应分配有一个布膜孔。

3.如权利要求2所述的一种熔融缩聚反应器，其特征在于：所述降膜流道（41）所述布膜孔（311）为一个时，布膜孔位于降膜流道内凹底面中心处；每条降膜流道（41）所属的布膜孔（311）为多个时，布膜孔沿降膜流道内凹底面中心线对称分布于降膜流道壁面处。

4.如权利要求3所述的一种熔融缩聚反应器，其特征在于：布膜孔内壁与各降膜流道壁面之间的最小距离小于5 mm。

5.如权利要求1所述的一种熔融缩聚反应器，其特征在于：所述封头（1）、物料室（3）、立式壳体（5）和底壳（8）均垂直安装，立式壳体（5）设有真空脱气口（51），反应器设有出料口（81）用于出料。

6.一种熔融缩聚反应器的降膜元件，其特征在于：所述降膜元件是管件与平板连接而成的组合式降膜元件（4），相邻两管之间连有平板，管件与平板围合成敞开式内凹降膜流道（41）；

所述组合式降膜元件（4）的管件与平板的连接方式包括管件（412）与平板（411）依次交替并列连接，以及将管件竖直安装在平板表面；

所述组合式降膜元件（4）的管件内部设有热媒循环传热路径，组合式降膜元件的管件（412）与熔融缩聚反应器上的第一、第二热媒室相通；热媒经由其中一个热媒室均匀流入组合式降膜元件的管件内部，再由管件流入另一个热媒室，实现降膜元件处热媒的循环流动。

7.如权利要求6所述的一种熔融缩聚反应器的降膜元件，其特征在于：组合式降膜元件的管件与平板围合成的降膜流道（41）呈内凹形状，降膜流道内凹底面宽（L1）为5~100 mm，内凹深度（H）为2~100 mm，开口距离（L2）为8~100 mm；组合式降膜元件（4）两侧至少各有一条降膜流道（41），多条降膜流道平行排列。