1.一种多孔铜基晶须材料的制备方法，其特征在于包括如下处理步骤：（1）制备Cu‑Al合金块体：(a)将30wt.% 2‑3μm铜粉、60wt.% 7‑8μm铝粉物理均匀混合;o

(b)300Mpa 压制成型;(c)惰性气氛或还原气氛下高温烧结，烧结温度800C，高温持续时间

1h，自然冷却，其中所述压制成型的保压时间5min；所述惰性气氛为N2，所述还原气氛为H2；

o

所述高温烧结的程序升温速率10C/min；

（2）通过化学碱液腐蚀初步去合金化：所使用的腐蚀液为1M NaOH水溶液，腐蚀时间

12h，温度为30℃，腐蚀过程中辅助超声除去气泡，腐蚀后多次去离子水洗涤；

（3）通过电化学酸液腐蚀深度去合金化：以步骤（2）获得的铜材为阳极，Pt片为阴极，以

0.6M HNO3为电解液，腐蚀电压为0.3V，腐蚀时间2h，电化学腐蚀温度为常温；

（4）干燥，还原：干燥过程为使用乙醇‑去离子水多次交替洗涤除去腐蚀液，真空干燥；

还原为在5vol.%H2/N2下，于管式炉中还原处理60min；

（5）并以上述步骤（4）获得的多孔铜为衬底，进行脉冲激光烧灼硫化钨：步骤（4）获得的多孔铜为衬底置于真空室，使用Nd:YAG激光，使激光光束经过全反射镜和聚焦透镜后聚焦在硫化钨靶材上，发生光烧蚀反应，熔融蒸发出靶材羽流，并沉积于多孔铜材表面，脉冲激光烧灼硫化钨的参数：Nd:YAG激光，激光束波长为525nm，输出最大单脉冲能量为50mj，重复‑6 o频率为100Hz，光斑1mm；真空度小于×10 Torr，温度为200C，脉冲激光烧灼时间为30min；

硫化钨靶材与衬底的距离为2cm；

o

（6）高温处理获得多孔铜基晶须材料：高温程序升温为10/min升至500 C，恒温时间为

1h，自然冷却至室温，高温氛围为0.5vol.%H2/He混合气。