1.一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：步骤一：在水平设置的硅片(2)上滴加多个PS球(1)；

步骤二：在每个PS球(1)上均通过掠射角沉积的方法沉积一段Si体(3)；

步骤三：在每段Si体(3)远离PS球(1)的一端面均蒸镀Au层(4)；

步骤四：撤去硅片(2)，即可获得光驱微纳马达(5)。

2.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：所述多个PS球(1)呈矩形阵列设置。

3.根据权利要求1或2所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：每个所述PS球(1)的直径均为500nm-40μm。

4.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：所述掠射角的倾角为5°。

5.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：每段所述Si体(3)的长度均为2-5μm。

6.根据权利要求1-5中任一权利要求所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：每个所述Au层(4)的厚度均为15nm-2μm。

7.根据权利要求1所述的一种多环节可见光的光驱微纳马达的制备方法，其特征在于：当所述光驱微纳马达(5)悬浮在去离子水或有机溶剂中时，若没有光照，则光驱微纳马达(5)只呈现布朗运动；若存在可见光光照，则光驱微纳马达(5)向PS球(1)运动。