1.一种玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法具体工艺为：

1)玻璃基片的预处理：首先，在去离子水中超声处理玻璃基片至少15分钟，然后将其放入800mLmin-1的氧等离子中进行处理，使其表面带有负电荷；

2)前驱体溶液的配制：将十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)，钛酸四丁酯、正硅酸乙酯(TEOS)溶解于乙醇和水的混合溶剂中后，在搅拌的条件下放置8h；之后再向其中添加氢氧化铵；

3)薄膜的生长：将经过氧等离子处理的玻璃基片放进Teflon容器中，并向其中加入步骤2)配制的前驱体溶液，然后将装有前驱体溶液和玻璃基片的容器放入60℃烘箱中，在静止的条件下实现薄膜的生长；

4)薄膜的老化：将玻璃基片从Teflon容器中取出后，将其在100℃烘箱中干燥和老化

12h，接着在550℃下去除表面活性剂模板3h，从而制得薄涂层玻璃基片。

2.如权利要求1所述的玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法，其特征在于，步骤1)所述玻璃基片在氧等离子体中处理10分钟。

3.如权利要求1所述的玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法，其特征在于，步骤2)所述CTAB的加入量为0.04-0.12g，钛酸四丁酯的加入量为0.1-0.2mL，正硅酸乙酯的加入量为

0.01-0.07mL，乙醇和水的用量分别为10-20mL和30-40mL；氢氧化铵的浓度为25wt％，其添加量为2-8μL。

4.如权利要求3所述的玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法，其特征在于，步骤2)所述CTAB的加入量为0.06-0.10g，钛酸四丁酯的加入量为0.14-0.16mL。

5.如权利要求1所述的玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法，其特征在于，步骤3)所述玻璃衬底在60℃烘箱的Teflon容器中放置24h。

6.如权利要求1所述的玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法，其特征在于，步骤4)所述将玻璃基板从Teflon容器中取出后，采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。