1.一种抛光碳化硅衬底变质层厚度和光学常数椭偏检测方法，其特征在于包括如下步骤：

1)抛光后的碳化硅衬底椭偏数据获取：由宽光谱椭偏仪在反射模式下测量获得，所述椭偏数据描述的是输出光波与输入光波的振幅之比ψ和相位差Δ与波长λ的关系。

2)抛光后的碳化硅衬底基底折射率n(λ)、消光系数k(λ)求解：由Cauchy色散模型描述：

其中折射率n(λ)由三个参数A、B、C描述，消光系数k(λ)由Ak、Bk、λb三个参数描述，其中λb的值由分析者设定；建立碳化硅基底模型，即空气层-基底层，基底层光学常数由Cauchy色散模型替代，通过膜系传递矩阵建立光与样品的相互作用关系，从而生成入射角度α1和α2(远离布儒斯特角，基底层光学常数对椭偏数据ψ影响显著)下仿真数据，即ψ关于λ的两条曲线，通过仿真数据与测量数据进行非线性拟合，基底层Cauchy模型参数A、B、C参与非线性拟合，消光系数k(λ)设为0，从而获取基底层的折射率。

3)抛光后的碳化硅衬底变质层光学常数分析：建立抛光碳化硅衬底模型，其几何结构由空气层、变质层以及基底层构成，空气层光学常数已知，变质层和基底层都由Cauchy模型替代，基底层Cauchy模型模型参数A、B、C由步骤2)确定；通过透射电镜实验获取衬底变质层的平均厚度，该厚度作为变质层厚度的参考值；

通过膜系传递矩阵建立光与样品的相互作用关系，从而生成入射角度α3(靠近布儒斯特角，变质层厚度对椭偏数据Δ影响显著)下仿真数据，即ψ、Δ关于λ的曲线；

仿真数据与测量数据进行非线性拟合，变质层Cauchy模型参数A、B、C、Ak、Bk参与非线性拟合，若仿真曲线可以较好的匹配测量曲线，即可获取变质层的光学常数；若仿真曲线不能匹配测量曲线，说明基底层存在吸收，重新进行非线性拟合，将基底层Cauchy模型参数Ak、Bk也参与拟合，从而获取变质层光学常数。

第四步，抛光后的碳化硅衬底变质层厚度分析：不改变步骤3)建立的光学模型，由步骤

3)分析结果固定变质层Cauchy模型参数以及基底层的Cauchy模型参数，变质层厚度参与拟合；对入射角度α3下的每个位置的椭偏数据进行非线性拟合，提取每个位置变质层的厚度值，从而获取碳化硅衬底表面变质层厚度的分布情况。