1.一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，包括以下步骤：原料准备、快速凝固制备、热处理、固化处理，其特征在于，在固化处理中，包括以下步骤：对其中固化处理的纳米晶软磁固化剂涂覆工艺进行检测，确定涂覆工艺参数，其具体方法包括以下步骤：步骤一：在涂覆过程中，对纳米晶软磁进行检测，获取检测数据；

其中，检测数据包括：均匀系数；

步骤二：基于纳米晶软磁的检测数据，对涂覆效果进行评估，生成涂覆效果信号；

步骤三：分析纳米晶软磁涂覆前异常表面子区域是否会对涂覆过程产生影响，并生成对涂覆过程影响信号；

其中，对涂覆过程影响信号包括：对涂覆过程有影响信号和对涂覆过程无影响信号；

步骤四：基于对涂覆过程有影响信号，根据纳米晶软磁涂覆前的异常表面子区域，对涂覆工艺进行调控，具体过程为：基于对涂覆过程有影响信号，依据涂覆前异常表面子区域、涂覆后异常表面子区域和涂覆工艺的工艺参数，建立涂覆分析模型；

在后续工艺中，获取待涂敷纳米晶软磁的涂覆前异常表面子区域，以及该异常表面子区域的灰度绝对偏差值HP

2.根据权利要求1所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述均匀系数的获取过程为：在纳米晶软磁涂覆固化剂后，利用检测成像设备，获取纳米晶软磁的灰度直方图，并基于灰度值，将纳米晶软磁表面划分为多个区域，获得表面子区域；根据所有表面子区域的灰度值，计算获得灰度表征均比和灰度均匀值，将灰度表征均比与灰度均匀值进行求和计算，输出均匀系数。

3.根据权利要求2所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述灰度表征均比的获取过程为：获取所有表面子区域的灰度值和面积比，分别将灰度值与对应表面子区域的面积比进行乘积计算，输出各表面子区域的灰度表征值；再将所有表面子区域的灰度表征值进行均值计算，输出灰度表征均值；将灰度表征均值与标准灰度表征均值进行比值计算，输出灰度表征均比；

其中，面积比的获取过程为：获取表面子区域的面积，将表面子区域面积与纳米晶软磁表面总面积进行比值计算，输出面积比。

4.根据权利要求2所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述灰度均匀值的获取过程为：将灰度值与标准灰度值进行差值计算，输出灰度偏差值，并将灰度偏差值的绝对值，标记为灰度绝对偏差值，将灰度绝对偏差值与灰度绝对偏差阈值进行比较，当灰度绝对偏差值大于灰度绝对偏差阈值时，生成灰度异常信号，并将灰度异常信号对应的表面子区域标记为异常表面子区域；获取灰度差值以及灰度偏差总参数，将灰度差值与灰度偏差总参数进行乘积计算，输出灰度均匀值。

5.根据权利要求4所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述灰度差值的获取过程为：基于所有表面子区域，将所有表面子区域中，灰度偏差值的最大值与灰度偏差值的最小值进行差值计算，输出灰度差值。

6.根据权利要求4所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述灰度偏差总参数的获取过程为：基于异常表面子区域，获取各个表面子区域的灰度绝对偏差值，分别将灰度绝对偏差值与对应表面子区域的面积比进行乘积计算，输出各个异常表面子区域的灰度偏差参数；将所有灰度偏差参数进行求和计算，输出灰度偏差总参数。

7.根据权利要求2所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述生成涂覆效果信号的具体过程为：涂覆效果信号包括：涂覆合格信号和涂覆不合格信号；

将均匀系数与均匀系数阈值进行对比分析；

若均匀系数≥均匀系数阈值，则生成涂覆不合格信号；

若均匀系数＜均匀系数阈值，则生成涂覆合格信号。

8.根据权利要求1所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述生成对涂覆过程影响信号的具体过程为：在纳米晶软磁涂覆固化剂前，获取纳米晶软磁涂覆前的异常表面子区域；对涂覆前异常表面子区域与涂覆后异常表面子区域进行分析，获取异常重合面积比，将异常重合面积比与异常重合面积比进行对比；

若异常重合面积比＜异常重合面积，则生成对涂覆过程有影响信号；

若异常重合面积比≥异常重合面积，则生成对涂覆过程有影响信号。

9.根据权利要求8所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述异常重合面积比的获取过程为：基于纳米晶软磁的涂覆前异常表面子区域与涂覆后异常表面子区域，获取的异常重合面积；通过计算获得异常重合面积比YMB，其中，YM为异常重合面积，YMZ为异常总面积。

10.根据权利要求1所述的一种电抗器纳米晶铁芯的生产工艺，其特征在于，所述涂覆分析模型的建立过程为：基于多个涂覆不合格纳米晶软磁，分别获取各个涂覆不合格纳米晶软磁的建模数据；预设涂覆分析模型；将所有涂覆不合格纳米晶软磁的建模数据代入预设的涂覆分析模型中，计算获取a