1.一种硅颗粒清洗装置，其特征在于：包括清洗机构（1），所述清洗机构（1）一侧设置有冲淋机构（2），所述冲淋机构（2）前侧安装有曝气组件（3），所述清洗机构（1）上侧固定有压料组件（4），所述清洗机构（1）包括支撑架（101），所述支撑架（101）内设置有清洗室（103），所述支撑架（101）上安装有输送组件，输送组件包括两块支撑板（102），其中一块所述支撑板（102）上端转动连接有从动辊（105），另一块所述支撑板（102）上端转动连接有驱动辊（106），所述驱动辊（106）前端连接有驱动源，所述从动辊（105）和所述驱动辊（106）外圈设置有输送带（104）；

所述曝气组件（3）包括空压机（301），所述空压机（301）一侧连接有输气管（302），所述输气管（302）另一端连接有分流管（303），所述分流管（303）上安装有多个曝气盘（304）。

2.根据权利要求1所述的一种硅颗粒清洗装置，其特征在于：所述输送带（104）内设置有滤孔，所述支撑架（101）前后两侧内壁设置有导向槽，所述输送带（104）通过导向槽与所述支撑架（101）滑动连接。

3.根据权利要求1所述的一种硅颗粒清洗装置，其特征在于：所述分流管（303）固定在清洗室（103）内。

4.根据权利要求1所述的一种硅颗粒清洗装置，其特征在于：所述压料组件（4）包括固定座（401），所述固定座（401）上端安装有旋转电机（402），所述旋转电机（402）动力端连接有压料辊（403）。

5.根据权利要求4所述的一种硅颗粒清洗装置，其特征在于：所述压料辊（403）设置在所述清洗室（103）正上方，所述压料辊（403）为橡胶材质，所述压料辊（403）外圈设置有挡板。