1.一种纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将硅源、铝源、模板剂在研磨机中混合研磨，得到固体混合料；所述硅源、铝源的用量分别以SiO2、Al2O3计，SiO2、Al2O3和模板剂的摩尔比为1:(0.002～0.08):(0.15～0.25)；

(2)将固体混合料置于超临界晶化反应釜中，通入二氧化碳气体，加热进行晶化反应，结束后冷却至室温，得到晶化反应产物；

(3)将晶化反应产物用去离子水洗涤，直至滤液pH为7.0，然后干燥，焙烧，得到纳米H‑Beta分子筛。

2.如权利要求1所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述硅源为固体硅胶或白炭黑中的一种。

3.如权利要求1所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述铝源为异丙醇铝或偏铝酸钠中的一种。

4.如权利要求1所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述模板剂为N‑辛酰‑N‑丁基十二烷基酸铵。

5.如权利要求1所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述研磨机的转速为200r/min，研磨时间为0.5～1h。

6.如权利要求1所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述晶化反应的温度为80～120℃，时间为3～10h，釜内压力为8～10MPa。

7.如权利要求1所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述干燥的温度为100～120℃，时间为12～24h。

8.如权利要求1至7任一项所述纳米H‑Beta分子筛的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述焙烧的温度为500～550℃，时间为3～5h。