1.一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）为水平设置的矩形板状，在所述底座（1）的底面四家均竖向固定设有支撑腿；在所述底座（1）顶面两侧的中部分别固定设有立柱（2）和导向柱（3），在所述立柱（2）内的上部竖向开设有升降腔，在所述升降腔的下部开设有驱动腔；在所述升降腔内设有矩形的升降组件；在所述导向柱（3）的柱体上部设有缓冲组件；在所述立柱（2）内侧面的上部竖向活动设有滑板（4），在所述滑板（4）的外侧中部横向固定设有横梁（5），在所述横梁（5）内横向开设有矩形的调节腔，在所述调节腔的一侧开设有电机腔；在所述调节腔内设有调节组件；在所述底座（1）的顶面中部两侧分别固定设有矩形的清洗箱（6）和支撑座（7），在所述清洗箱（6）内设有清洗组件，在所述支撑座（7）的顶面水平固定设有放置台（8）；

在所述横梁（5）的底面两侧均固定设有竖板（9），在两个竖板（9）之间横向固定设有导向杆（10），在所述导向杆（10）的杆体活动套设有水平设置的滑块（11），在所述滑块（11）的一侧配合导向杆（10）开设有导向孔；在所述滑块（11）的顶面竖向固定设有电推杆（12），在所述电推杆（12）的伸缩端底部设有承载组件；在所述清洗箱（6）下方的底座（1）底面固定设有电机箱（13），在所述电机箱（13）内竖向固定设有第一电机（14），在所述底座（1）底面的另一侧固定设有矩形的收集箱（15），在所述清洗箱（6）的一侧底部固定设有连接弯管（16），且所述连接弯管（16）的底端贯穿进收集箱（15）内；在所述收集箱（15）底部的一侧竖向固定设有排放管（17）；

所述清洗组件包括转动轴（18）、转动盘（19）和毛刷杆（20），在所述清洗箱（6）内底面的中部水平固定设有第一轴承，在所述第一轴承的内圈中竖向固定设有转动轴（18），所述转动轴（18）的顶端水平固定设有转动盘（19），且所述转动轴（18）的底端贯穿进电机箱（13）内，并通过联轴器与第一电机（14）的电机轴同轴固接；在所述转动盘（19）的顶面开设有矩形的安装槽，在所述安装槽内的底部等距竖向固定设有若干圆杆状的毛刷杆（20），在每个所述毛刷杆（20）的杆体周侧均固定设有毛刷条；

所述承载组件包括存储箱（21）、过滤网（22）、插孔（23）、竖杆（24）和连接套管（25），在所述安装槽内设有矩形的存储箱（21），在所述存储箱（21）的各个侧面均开设有矩形开口，在每个所述矩形开口内均固定设有过滤网（22），在所述存储箱（21）的底面配合毛刷杆（20）开设有若干圆形的插孔（23），且每个所述毛刷杆（20）均从插孔（23）内插入存储箱（21）内；

在所述存储箱（21）的顶面中部开设有轴承槽，在所述轴承槽内固定设有第二轴承，在所述第二轴承的内圈中竖向固定设有竖杆（24），在所述竖杆（24）的顶端竖向固定设有连接套管（25），在所述连接套管（25）的管体中部开设有螺纹孔，在所述螺纹孔内螺旋连接有固定螺栓；所述电推杆（12）的伸缩端底部插设在连接套管（25）内，在所述电推杆（12）的伸缩端底部配合固定螺栓开设有第二螺纹孔，且所述固定螺栓的后端螺旋连接在第二螺纹孔内；

所述缓冲组件包括固定板（37）、缓冲弹簧（38）、缓冲板（39）和导向套管（40），在所述导向柱（3）的柱体中部水平固定套设有环形板状的固定板（37），在所述固定板（37）上方的导向柱（3）柱体上活动套设有缓冲弹簧（38）和环形板状的缓冲板（39），且所述缓冲弹簧（38）位于缓冲板（39）的下方；所述缓冲弹簧（38）的两端分别与固定板（37）的顶面和缓冲板（39）的底面固接；在所述导向柱（3）的柱体上部活动套设有导向套管（40），在所述导向套管（40）的管体一侧横向固接有横杆，且所述横杆的一端与横梁（5）的一侧中部固接。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：所述升降组件包括第二电机（26）、丝杠（27）和螺纹筒（28），在所述驱动腔内竖向固定设有第二电机（26），在所述升降腔内的顶部和底部均固定设有第三轴承，所述丝杠（27）竖向设置在升降腔内，且所述丝杠（27）的两端均固接在第三轴承的内圈中；所述丝杠（27）的底端贯穿进驱动内，并通过联轴器与第二电机（26）的电机轴同轴固接；在所述丝杠（27）的杆体上活动套设有螺纹筒（28），在所述螺纹筒（28）的筒体一侧横向固定设有连接板，在所述升降腔内的一侧内壁上沿高度方向开设有条状开口，且所述连接板的外端从条状开口内延伸出升降腔外，所述连接板的外端与滑板（4）的外侧中部固接。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：所述调节组件包括第三电机（29）、螺纹杆（30）和螺纹套管（31），在电机腔内横向固定设有第三电机（29），在所述调节腔的两侧内壁上均设有第四轴承，所述螺纹杆（30）横向设置在调节腔内，且所述螺纹杆（30）的两端均固接在第四轴承的内圈中；所述螺纹杆（30）的一端贯穿进电机腔内，并通过联轴器与第三电机（29）的电机轴同轴固接；在所述螺纹杆（30）的杆体上活动套设有螺纹套管（31），在所述螺纹套管（31）的管体底部竖向固定设有连接杆，在所述调节腔的内底面沿长度方向开设有条形开口，且所述连接杆的底端从条形开口内延伸出与滑块（11）的顶面固接。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，其特征在于：在所述放置台（8）的顶面开设有矩形的放置槽，在所述放置槽内的底面上横向等均开设有若干条状的导流槽（32），在所述放置槽内的底部一侧纵向水平开设有集流槽（33），且每个所述导流槽（32）均与集流槽（33）连通设置；在所述放置台（8）的底面一侧中部竖向设置有导流管（34），且所述导流管（34）的两端分别贯穿进集流槽（33）和收集箱（15）内；在所述滑块（11）的导向孔内壁四周均开设有滚珠槽，在每个所述滚珠槽内均活动卡设有滚珠（35），且每个所述滚珠（35）三分之三的珠体卡设在滚珠槽内，在所述导向杆（10）的杆体表面均配合滚珠（35）横向开设有条状的滚珠滑槽（36），且每个所述滚珠（35）的其余珠体均活动抵压在滚珠滑槽（36）内。

5.根据权利要求1‑4任一所述的一种用于半导体石墨清洗的清洗设备的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，首先将电推杆（12）、第一电机（14）、第二电机（26）和第三电机（29）分别通过导线与外接电源电性连接，然后往清洗箱（6）内注入清洗液，然后将待清洗的半导体石墨从存储箱（21）顶部的进料口放入存储箱（21）内，然后通过升降组件将装有半导体石墨的存储箱（21）沉入清洗箱（6）内；

步骤二，通过控制升降组件带动滑板（4）在立柱2的柱体上进行升降，通过滑板（4）的升降带动横梁（5）进行升降，通过横梁（5）的升降带动导向杆（10）上额滑块（11）进行升降，通过滑块（11）的升降带动电推杆（12）底端的承载组件进行升降，通过电推杆（12）的伸缩推动竖杆（24）底端的存储箱（21）抵压在转动盘（19）的安装槽内，并使安装槽内的毛刷杆（20）均通过插孔（23）插设进存储箱（21）内；

步骤三，然后通过控制第一电机（14）带动转动轴（18）进行转动，通过转动轴（18）带动转动盘（19）进行转动，通过转动盘（19）的转动带动装有半导体石墨的存储箱（21）进行转动，通过在毛刷杆（20）的毛刷条和转动产生的离心力的作用下，对半导体石墨进行快速清洗；

步骤四，在对半导体石墨清洗结束后，通过控制电推杆（12）的伸缩将存储箱（21）升出安装槽外，通过控制升降组件带动横梁（5）上升，通过横梁（5）的升降将电推杆（12）底端的承载组件升出清洗箱（6）外；

步骤五，通过控制调节组件带动滑块（11）在导向杆（10）上进行横向移动，通过滑块（11）的横向移动带动电推杆（12）端的承载组件进行横向移动，移动至放置台（8）的顶面上方后，通过控制升降组件带动横梁5进行下降，通过横梁5的下降带动电推杆（12）底端的承载组件卡设在放置槽内，通过放置槽内导流槽（32）和集流槽（33）将半导体石墨上的清洗液进行沥干；

步骤六，在将半导体石墨上的清洗液沥干后，将清洗后半导体石墨从存储箱（21）取出，并将电源关闭。