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专利号: 2019114201738
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 其他类目不包含的电技术
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述复合电磁屏蔽膜由MXene、银纳米线和粘结剂制成;其中,MXene和银纳米线的质量比为0.05‑20,粘结剂的质量用量为MXene和银纳米线总质量用量的0.001‑10%;所述粘结剂为海藻酸钠、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、壳聚糖、羟丙基甲基纤维素、羧甲基纤维素、羧甲基纤维素钠中的一种或几种的混合;

所述MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜通过如下方法制备:将银纳米线溶液与粘结剂充分混合后得到混合液1,混合液1再与MXene溶液充分混合,得到混合液2;将混合液2抽滤成膜,即得到MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜。

2.如权利要求1所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:MXene和银纳米线的质量比为0.1‑5。

3.如权利要求1所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:MXene和银纳米线的质量比为0.33‑3。

4.如权利要求1所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:MXene和银纳米线的质量比为0.33。

5.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:粘结剂的质量用量为MXene和银纳米线总质量用量的1‑10%。

6.如权利要求5所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:粘结剂的质量用量为MXene和银纳米线总质量用量的2‑5%。

7.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述MXene为片层状,直径200 nm‑20μm,厚度为2 nm‑30 nm;所述MXene溶液的溶剂为水、乙醇、甲醇、聚丙烯醇中的一种或几种的混合;所述MXene溶液的浓度为0.1‑30 mg/mL。

8.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述银纳米线直径为18‑200 nm,长度为10‑200 μm;所述银纳米线溶液的溶剂为水、乙醇、甲醇、聚丙烯醇中的一种或几种的混合,所述银纳米线溶液的浓度为0.1‑25 mg/mL。

9.如权利要求7所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述MXene溶液和银纳米线溶液的溶剂均为水。

10.如权利要求8所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述MXene溶液和银纳米线溶液的溶剂均为水。

11.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:制备混合液1和混合液2的过程中,采用磁力搅拌、机械搅拌或者机械振动来促进混合,处理时间不少于20 min,直至溶液混合均匀。

12.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:抽滤使用的滤膜为纤维素滤膜、聚酰胺滤膜、聚四氟乙烯滤膜、聚偏氟乙烯滤膜中的一种,孔径为

0.02‑10 μm。

13.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述电磁屏蔽膜的厚度为500 nm‑1 mm。

14.如权利要求1‑4之一所述的MXene/银纳米线复合电磁屏蔽膜,其特征在于:所述电磁屏蔽膜的厚度为500 nm‑40 μm。