1.一种单分子计数检测基因组中DNA损伤的荧光化学传感器，其特征在于，所述荧光化学传感器包括末端转移酶、生物素化的双脱氧核苷酸、生物素化的核苷酸、荧光标记的核苷酸、DNA糖基化酶、AP内切核酸酶1、链霉抗生物素蛋白包被的磁珠和核酸外切酶Exo I；

所述DNA损伤的类型为8‑oxoG、尿嘧啶或脱氧肌苷；

所述DNA糖基化酶与待测DNA损伤具体类型相对应；

当检测8‑oxoG引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为甲酰胺嘧啶DNA糖基化酶；

当检测尿嘧啶引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为尿嘧啶DNA糖基化酶；

当检测脱氧肌苷引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为人类烷基腺嘌呤DNA糖基化酶；

所述生物素化的双脱氧核苷酸为Biotin‑ddATP；

所述生物素化的核苷酸为Biotin‑dNTP；

所述荧光标记的核苷酸为Cy5修饰的ddUTP。

2.如权利要求1所述的荧光化学传感器，其特征在于，所述DNA损伤包括孤立的损伤位点和聚集的损伤位点。

3.一种非诊断目的的使用权利要求1‑2任一项所述荧光化学传感器检测基因组中DNA损伤的方法，其特征在于，所述DNA损伤的类型为8‑oxoG、尿嘧啶或脱氧肌苷；

所述方法包括：

S1、向待测物中加入生物素化的双脱氧核苷酸和末端转移酶进行孵育，然后加入链霉抗生物素蛋白包被的磁珠进行分离；

S2、加入DNA糖基化酶和AP内切核酸酶1进行孵育处理；

S3、加入生物素化的核苷酸和末端转移酶进行孵育处理；

S4、通过磁力分离将混合物洗涤三次，向分离的生物素化的DNA链中加入荧光标记的核苷酸和末端转移酶避光孵育处理，经磁分离和外切酶消化，进行单分子成像；

所述步骤S2中，所述DNA糖基化酶与待测DNA损伤具体类型相对应；

当检测8‑oxoG引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为甲酰胺嘧啶DNA糖基化酶；

当检测尿嘧啶引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为尿嘧啶DNA糖基化酶；

当检测脱氧肌苷引起的DNA损伤时，所述DNA糖基化酶为人类烷基腺嘌呤DNA糖基化酶；

所述生物素化的双脱氧核苷酸为Biotin‑ddATP；

所述生物素化的核苷酸为Biotin‑dNTP；

所述荧光标记的核苷酸为Cy5修饰的ddUTP；

所述外切酶为Exo I。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述步骤S1中，孵育具体条件为：35～40℃下孵育处理0.5～1.5小时。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述步骤S1中，孵育具体条件为：37℃下孵育处理1小时。

6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述步骤S2中，孵育具体条件为：35～40℃下孵育处理0.5～1.5小时。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤S2中，孵育具体条件为：37℃下孵育处理1小时。

8.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述步骤S3中，孵育具体条件为：35～40℃下孵育处理0.4～1小时。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述步骤S3中，孵育具体条件为：37℃下孵育处理0.5小时。

10.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述步骤S4中，避光孵育具体条件为：35～40℃下孵育处理0.5～1.5小时；

所述单分子成像为全内反射荧光单分子成像，640nm激光用于激发Cy5分子，对Cy5分子进行计数从而实现对DNA损伤的定量检测。

11.如权利要求10所述的方法，其特征在于，所述步骤S4中，孵育具体条件为：37℃下孵育处理1小时。