1.一种立方相有序超微孔二氧化硅的合成方法，其特征在于，合成方法为：在25 38 ℃~的温度下，将模板剂加入去离子水中，再加入碱源，待模板剂完全溶解后，在搅拌的条件下滴加入硅源，静置后移入水热反应釜中，进行晶化，晶化完成后，进行抽滤、洗涤、干燥，干燥后得超微孔二氧化硅前驱体粉末，再进行煅烧，煅烧后得立方相有序超微孔二氧化硅分子筛，其中模板剂为N-脱氢枞基-N,N-二甲基-N-羟乙基溴化铵，硅源为正硅酸乙酯，碱源为甲胺。

2.根据权利要求1所述的立方相有序超微孔二氧化硅的合成方法，其特征在于，所述硅源与模板剂的摩尔比为1:0.05 0.20。

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3.根据权利要求1所述的立方相有序超微孔二氧化硅的合成方法，其特征在于，所述硅源与碱源的摩尔比为1:0.27 3.76。

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4.根据权利要求1所述的立方相有序超微孔二氧化硅的合成方法，其特征在于，所述晶化温度为80 140 ℃，持续时间为12 48 h。

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5.根据权利要求1所述的立方相有序超微孔二氧化硅的合成方法，其特征在于，所述煅烧温度以1 5 K/min的升温速率升至723 1123 K，持续时间为2 8 h。

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