1.一种手性超微孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在温度为25 38 ℃条件下，将手性模板剂和无机硅源溶于去离子水中；

~

在所述手性模板剂和无机硅源混合液边搅拌边缓慢滴加水解剂；

将所述已滴加水解剂的混合液移入水热反应釜中，其中，晶化温度为80 120 ℃，特定~晶化时间为12 72 h；

~

将所述晶化后的溶液进行洗滤、干燥，煅烧，即得。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述手性模板剂为(+)-脱氢枞基三甲基溴化铵。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无机硅源为硅酸钠。

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述水解剂为乙酸乙酯。

5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无机硅源与手性模板剂的摩尔比为

1︰0.08 0.25。

~

6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无机硅源与水解剂的摩尔比为1︰1~

3。

7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述煅烧温度为以1 5 ℃/min的升温速~率升至450 850℃煅烧2 8 h。

~ ~

8.一种如权利要求1-7任一权利要求所述的制备方法所得的手性超微孔二氧化硅。