1.一种手性超微孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在温度为25 38 ℃条件下，将手性模板剂(+)‑脱氢枞基三甲基溴化铵和无机硅源溶于~

去离子水中；

在所述手性模板剂(+)‑脱氢枞基三甲基溴化铵和无机硅源混合液边搅拌边缓慢滴加水解剂乙酸乙酯；

将所述已滴加水解剂乙酸乙酯的混合液移入水热反应釜中，其中，晶化温度为80 120 ~

℃，晶化时间为12 72 h；

~

将所述晶化后的溶液进行洗滤、干燥，煅烧，即得。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无机硅源为硅酸钠。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无机硅源与手性模板剂(+)‑脱氢枞基三甲基溴化铵的摩尔比为1︰0.08 0.25。

~

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述无机硅源与水解剂乙酸乙酯的摩尔比为1︰1 3。

~

5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述煅烧温度为以1 5 ℃/min的升温速~

率升至450 850℃煅烧2 8 h。

~ ~

6.一种如权利要求1‑5任一权利要求所述的制备方法所得的手性超微孔二氧化硅。