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专利号: 2017102591141
申请人: 泰州阿法光电科技有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2025-05-29
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于光谱干涉装置的测量系统,其特征在于:所述测量系统包括光源(101),与光源(101)依次连接的扩束准直透镜(102)、起偏器(103)、检偏器(105)、自聚焦透镜(106)、光谱仪(107)及数据处理单元(108);待测双折射晶体(104)连接所述起偏器(103)与检偏器(105)之间;

所述起偏器(103)用于将经扩束准直透镜(102)输出的平行光起偏为线偏振光;

所述起偏器(103)的偏振轴与待测双折射晶体(104)的任意偏振轴有夹角θ;所述检偏器(105)与待测双折射晶体(104)的任意偏振轴夹角为45度;

其中,θ≠Nπ,N为整数;

所述测试系统应用于如下测量方法:

(1)打开光源(101),旋转起偏器(103)调整夹角θ,观察光谱仪接收到的光谱条纹,使其干涉对比度最佳,获得最佳干涉条纹,干涉条纹为:(2)使用光谱仪采集步骤(1)所述最佳光谱干涉条纹,数据处理单元(108)对步骤(1)中最佳干涉条纹进行傅里叶变换,得到交流项及直流项;

(3)根据步骤(2)交流项及直流项的时间间隔,计算出待测双折射晶体(104)的延迟量t;

(4)根据步骤(3)所述延迟量t及待测双折射晶体(104)的折射率n,计算出待测双折射晶体(104)的厚度h:h=ct/n;

测试灵敏度d为:

其中,λ0为光源的中心波长,Δλ为光源谱宽,c为光速,t为待测双折射晶体(104)的延迟量;

所述I(w)为所述光谱仪(107)上接收到的干涉条纹,所述Io(w)为所述起偏器(103)输出的线偏振光,所述 为两路光经双折射晶体后的光程差。

2.根据权利要求1所述的基于光谱干涉装置的测量系统,其特征在于:所述数据处理单元(108)为PC机。

3.根据权利要求1所述的基于光谱干涉装置的测量系统,其特征在于:所述光源(101)为宽谱光源。

4.根据权利要求1-3任一所述的基于光谱干涉装置的测量系统,其特征在于:所述测量装置用于双折射晶体厚度测量。