1.一种复合分离膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1)以结晶性聚合物为成膜聚合物，利用溶剂-非溶剂蒸汽双扩散致相转化法或浸没沉淀法制备基膜；

2)将基膜清洗后进行保孔干燥；

3)先将步骤2)干燥后的基膜置于磁控溅射法溅射腔内的样品台上，抽真空后通入氩气作为溅射气体，以一种无机物为靶材，采用磁控溅射方法将无机物溅射到所述基膜表面及其孔内部，制得所述复合分离膜；

步骤3)所述无机物为金、银、铜、铁、镍、钛、不锈钢、铝、锌、硅、石墨、氧化铜、二氧化钛、二氧化硅、氧化铁、氧化锌、氮化硅或氮化钛。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述结晶性聚合物为聚酰亚胺或聚偏氟乙烯。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤3)所述磁控溅射方法的参数为：工作气压为0.1-10Pa，溅射功率为20-200w，溅射时间为3-300min，溅射过程中靶材与基膜的间距为10-200mm，基底温度为10-50℃，样品架的旋转速度为50-200r/min。

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤2)中保孔干燥的方法为：利用冷冻干燥机将基膜在室温下干燥24-48h。

5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中基膜为平板膜或中空纤维膜。

6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤1)中基膜的平均孔径为0.1～500μm。