1.一种采用移相定位系统在激光干涉纳米光刻中移相的方法，其特征在于：在两光束或多光束激光干涉光刻中，将两束或多束相干激光光束组合，发生干涉，通过控制移相定位系统使光路的光程发生改变，实现干涉图形的相位移动及定位。

2.根据权利要求1所述的方法，移相定位系统由一个电压源、一个位移驱动器和反射镜组成。 其特征在于：给位移驱动器施加电压时，它沿着轴向方向移动，并且和它固定在一起的反射镜也会沿着它的轴向平行移动，从而改变光程，实现干涉图形的相位移动及定位。

3.根据权利要求2所述的方法，移相定位系统也可通过电压源电压的变化，在与入射光垂直平面方向推动一个光楔，改变光程实现干涉图形的相移。

4.根据权利要求2所述的方法，移相定位系统也可通过电压源电压的变化，在与入射光垂直平面方向控制一个液晶显示器件(LCD)，改变光程实现干涉图形的相移。

5.根据权利要求2所述的方法，移相定位系统也可通过电压源电压的变化，控制一个驱动器拉伸光纤，改变光通过光纤光程实现干涉图形的相移。

6.根据权利要求1至5所述的方法，其特征在于：在多光束激光干涉纳米光刻系统中，使用一个移相定位系统给一个位移驱动器施加不同的电压，可以移动一个反射镜的位置，使一路相干光的光程发生改变，实现干涉图形的相位在一个方向上的移动及定位。

7.根据权利要求1至5所述的方法，其特征在于：在多光束激光干涉纳米光刻系统中，使用多个移相定位系统给多个位移驱动器施加不同的电压，可以移动多个反射镜的位置，使多路相干光的光程发生改变，实现干涉图形的相位在多个方向上的移动及定位。

8.根据权利要求1至7所述的方法，其特征在于：在多光束激光干涉纳米光刻系统中，可以使用移相定位系统，通过检测干涉图形的相位差，采用闭环反馈(如锁相)控制干涉图形的相位移动，减少相位漂移使图形定位更精确。

9.根据权利要求1至8所述的方法，其特征在于：给位移驱动器施加电压时，它沿着轴向方向移动，并且和它固定在一起的反射镜沿着它的轴向非平行移动，确保光斑或光束干涉叠加位置不变的条件下改变光程，实现干涉图形的相位移动及定位。