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专利号: 2024109792531
申请人: 中国计量大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 测量;测试
更新日期:2025-12-26
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种基于表面等离子体共振的Pt-WO

S1、材料预备:首先取一端纤芯直径为105μm,包层直径为125μm的多模光纤(1),以及管直径为30μm,外径为125μm长度为2mm的石英毛细管(2),在进行使用前,先将多模光纤(1)以及石英毛细管(2)进行清洁,在将多模光纤(1)以及石英毛细管(2)表面存在的灰尘油污去除后,此时组合石英毛细管(2);

S2、组合石英毛细管(2):通过将多模光纤(1)的末端与石英毛细管(2)进行熔接,在熔接后检查气密性问题,直至无问题则继续进行操作,此时进行镀膜操作,在进行镀膜时,采用溅射镀膜的方式进行镀膜,在多模光纤(1)与石英毛细管(2)连接处的表面以及石英毛细管(2)的外表面均镀上一层50nm厚的金膜(3),在镀膜完成后,对其进行退火操作,在退火处理完成后,再在石英毛细管(2)的端面镀一层200nm厚的金膜(3)形成反射面,在镀膜完成后,此时进行退火操作,在退火完成后,此时对毛细管侧面的金膜(3)上进行涂覆操作;

S3、涂覆操作:通过在石英毛细管(2)侧面的金膜(3)上涂覆一层15μm厚的PDMS涂层(4)后,在PDMS涂层(4)的表面制作纳米孔洞,通过对PDMS涂层(4)的表面采用电子束蚀刻的方式进行制作纳米孔洞,在纳米孔洞制作完毕后,进行溅射操作;

S4、溅射操作:完成PDMS涂层(4)表面的纳米孔洞制作后,使用磁控溅射镀膜机对PDMS涂层(4)的表面纳米孔洞进行交替溅射Pt和WO其中,所述S2中进行退火操作,为了提高金膜(3)的附着效果以及均匀程度,采用150℃至200℃进行退火操作;

其中,所述S3中对PDMS涂层(4)的表面制作纳米孔洞时,为了确保后期传感器的工作效率可控,采用固定顺序排列方式进行纳米孔洞制作;

其中,所述S4在进行交替式对PDMS涂层(4)的表面进行镀Pt和WO

其中,所述S4中Pt与WO