1.一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，包括框架（1）和支撑板（8），其特征在于：所述框架（1）的顶部对称设置有支撑板（8），支撑板（8）的外壁设置有研磨组件（9），框架（1）的内壁设置有筛分组件（3）；

所述框架（1）的内壁设置有漏斗（15），所述框架（1）的底部设置有分散桶（16），所述分散桶（16）包括第一电机（17）、排料槽（18）、锥形块（22）和搅拌棒（23），所述第一电机（17）固定设置在分散桶（16）的底部，所述锥形块（22）设置在分散桶（16）的内壁，锥形块（22）的内壁穿设有搅拌棒（23），且搅拌棒（23）的一端与第一电机（17）的输出端固定连接，所述分散桶（16）的底部设置有排料槽（18）；

所述排料槽（18）的内壁设置有密封组件。

2.根据权利要求1所述的一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，其特征在于：所述框架（1）的底部设置有支撑腿（2），筛分组件（3）包括滑动槽（5）、导向杆（6）、缓冲弹簧（7）和振动电机（4），滑动槽（5）对称设置在框架（1）的内壁，导向杆（6）固定设置在滑动槽（5）的内部，缓冲弹簧（7）的顶端与筛分组件（3）的底部固定连接，筛分组件（3）的底部对称设置有振动电机（4）。

3.根据权利要求1所述的一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，其特征在于：所述研磨组件（9）包括第二电机（11）、转动轴（12）和研磨轮（13），第二电机（11）固定设置在研磨组件（9）的底部，转动轴（12）设置在研磨组件（9）的内部，且转动轴（12）的一端与第二电机（11）的输出端固定连接，转动轴（12）的外壁连接有研磨轮（13），研磨组件（9）的底部设置有孔洞（14），支撑板（8）的外壁设置有伺服电机（10），且伺服电机（10）的一端与研磨组件（9）的外壁相连接。

4.根据权利要求1所述的一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，其特征在于：所述密封组件包括连接环（19）、密封块（20）、和贯穿孔（32），密封块（20）镶嵌设置在排料槽（18）的内部，密封块（20）的底部固定连接有连接环（19），连接环（19）的内壁设置有贯穿孔（32），贯穿孔（32）的内壁穿设有定位螺栓（21），且定位螺栓（21）的一端延伸至分散桶（16）的内部。

5.根据权利要求3所述的一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，其特征在于：所述研磨组件（9）的外壁设置有震动组件（33），震动组件（33）包括电池组件（24）、圆形槽（25）、限位架（28）和滑动杆（31），震动组件（33）的内壁依次交错设置有圆形槽（25）和电池组件（24），圆形槽（25）的内壁设置有限位架（28），限位架（28）的内壁穿设有滑动杆（31）。

6.根据权利要求5所述的一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，其特征在于：所述圆形槽（25）的内壁设置有电磁铁（26），且电磁铁（26）位于限位架（28）的一侧，滑动杆（31）的一端固定连接有磁吸板（27），且磁吸板（27）位于电磁铁（26）的一侧，电磁铁（26）与电池组件（24）电性连接。

7.根据权利要求6所述的一种筛动过程中均匀分散的化妆品原料研磨机，其特征在于：所述滑动杆（31）的外壁环绕设置有复位弹簧（29），滑动杆（31）远离磁吸板（27）的一端设置有敲击块（30），且复位弹簧（29）的另一端与敲击块（30）的外壁固定连接。