1.一种半导体基底清洁装置，包括安装底桌(1)、支撑柱板(2)，其特征在于：所述支撑柱板(2)的顶部固定连接有安装顶板(4)，所述支撑柱板(2)的顶部固定连接有运输电机(5)，运输电机(5)的输出端固定连接有运输带(6)，运输带(6)与安装顶板(4)转动连接，所述运输带(6)的表面等距固定连接有夹持固定块(7)，夹持固定块(7)的内侧滑动卡接有滑动内卡块(16)，所述滑动内卡块(16)的底部固定连接有两个伸缩内柱(17)，所述伸缩内柱(17)的外侧滑动卡接有伸缩外筒(18)，所述伸缩外筒(18)的底部固定连接有吸附安装板(20)，所述伸缩外筒(18)的侧部顶端固定连接有梯形斜块(19)，所述伸缩外筒(18)的内部活动安装有压缩弹簧(21)，所述压缩弹簧(21)的两端分别与伸缩内柱(17)和吸附安装板(20)固定连接；

所述安装底桌(1)的顶部固定连接有四个安装侧板(9)，安装侧板(9)相邻一侧均固定连接有滑动底条(10)，滑动底条(10)的两端固定连接有滑动斜条(11)，两个滑动斜条(11)之间固定连接有滑动底块(12)，两个安装侧板(9)的一侧固定连接有第一顶条(13)，另外两个安装侧板(9)与第一顶条(13)相邻一侧固定连接有第二顶条(14)，第一顶条(13)与滑动底条(10)的间距与梯形斜块(19)的高度相同，第二顶条(14)与滑动底条(10)的间距与梯形斜块(19)的高度相同；

所述安装侧板(9)的内侧顶部固定连接有带压动块(15)，所述带压动块(15)位于运输带(6)的内侧；

所述安装底桌(1)的顶部固定连接有超声波清洗箱(23)，所述安装底桌(1)的内侧固定连接有清洗电机(8)，所述清洗电机(8)的输出端固定连接有清洗轴(24)，清洗轴(24)贯穿安装底桌(1)的顶部与超声波清洗箱(23)的底部，且压缩弹簧(21)的顶端固定连接有清洁棉盘(22)；

所述超声波清洗箱(23)的一侧固定连接有烘干箱(3)，所述烘干箱(3)内部安装有烘干机，所述烘干箱(3)固定连接于两个安装侧板(9)的内侧；

所述第一顶条(13)的两端与支撑柱板(2)固定连接，第二顶条(14)的两端为斜面；

所述带压动块(15)与第一顶条(13)和第二顶条(14)的间距与滑动内卡块(16)的高度相同。