1.一种用于单晶硅的制绒液，其特征在于，所述制绒液由如下质量百分比含量的组份组成：碱性物质1‑3%，制绒添加剂0.3‑2.5%，低共熔溶剂5‑30%，余量为去离子水；

所述低共熔溶剂的制备方法为：

将(2‑羟乙基)三甲基氢氧化铵和尿素分别置于60℃真空干燥箱中干燥12h，按物质的量比为n(2‑羟乙基)三甲基氢氧化铵:n尿素=1:2混合搅拌，密封，然后在70℃‑80℃油浴锅中加热，直至得到无色透明液体，即得到氯化胆碱‑尿素低共熔溶剂；

其中，所述(2‑羟乙基)三甲基氢氧化铵可替换为正辛基三甲基氯化铵、十烷基三甲基氯化铵或(2‑羟乙基)乙酰三甲基氯化铵；

相应地，所述正辛基三甲基氯化铵与尿素混合制备得到正辛基三甲基氯化铵‑尿素低共熔溶剂；

所述十烷基三甲基氯化铵与尿素混合制备得到十烷基三甲基氯化铵‑尿素低共熔溶剂；

所述(2‑羟乙基)乙酰三甲基氯化铵与尿素混合制备得到(2‑羟乙基)乙酰三甲基氯化铵‑尿素低共熔溶剂。

2.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅的制绒液，其特征在于，所述低共熔溶剂占所述制绒液的质量百分比为15‑28%。

3.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅的制绒液，其特征在于，所述碱性物质包括无机碱和有机碱；其中，所述无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾，所述无机碱占所述制绒液的质量百分比为1‑2%；

所述有机碱为聚乙烯亚胺，所述有机碱占所述制绒液的质量百分比为0.5‑1%。

4.根据权利要求1所述的一种用于单晶硅的制绒液，其特征在于，所述制绒添加剂的组份组成，以质量百分比计为：水溶性高分子树脂0.1‑0.5%，消泡剂0.1‑1%，缓冲剂0.01‑

0.1%；

其中，所述水溶性高分子树脂为水溶性醇酸树脂或水溶性丙烯酸树脂，所述消泡剂为聚醚消泡剂或有机硅消泡剂，所述缓冲剂为乳酸钠或碳酸氢钠。

5.一种用于单晶硅的制绒方法，其特征在于，利用如权利要求1所述制绒液对单晶硅片进行制绒，具体方法如下：（1）将碱性物质溶于水中配制成碱液，并将制绒添加剂、低共熔溶剂、水与碱性物质按质量比例混合均匀；

（2）将单晶硅片置于预处理液中浸泡处理后超声、清洗，备用；

（3）将预处理后的单晶硅片浸入由步骤（1）制得的制绒液中进行表面制绒，制绒后的单晶硅片依次经水、无水乙醇清洗，各三次，得到绒面单晶硅硅片。

6.根据权利要求5所述的一种用于单晶硅的制绒方法，其特征在于，步骤（2）中，所述预处理液的组份组成，以质量百分比计为：硅酸钠1‑5%、曲拉通X‑100聚乙二醇单辛基苯基醚

0.5‑2%、OP‑10 1‑3%，三聚磷酸钠0.5‑2%，聚醚消泡剂GP‑330 1‑3%，余量为水。

7.根据权利要求5或6所述的一种用于单晶硅的制绒方法，其特征在于，所述步骤（2）中的预处理温度为50‑60℃，超声功率为60‑100W，超声时间为5‑10min，并用无水乙醇清洗干净。

8.根据权利要求5所述的一种用于单晶硅的制绒方法，其特征在于，所述步骤（3）中的制绒温度为50‑85℃，制绒时间为80‑250s。