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专利号: 2021222434107
申请人: 武汉鑫誉金天科技有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
专利领域: 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕
更新日期:2026-04-03
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种成膜均匀性高的钙钛矿涂布装置,包括工作台面,工作台面上固定有板块,板块用于放置工料,其特征在于,还包括有存放块、堆积块和移动件;

所述存放块和堆积块位于板块的两侧,且固定在工作台面上,移动件位于板块、存放块和堆积块的一侧;

所述移动件上设置有伸缩吸附单元,伸缩吸附单元能够带动位于存放块内的垫纸移动至板块上,同时其能够带动位于板块上的被使用后的垫纸移动至堆积块内。

2.根据权利要求1所述的成膜均匀性高的钙钛矿涂布装置,其特征在于,所述移动件包括导向件,以及设置导向件上的滑动件,导向件两侧固定有垫块,导向件通过垫块固定在工作台面上。

3.根据权利要求1所述的成膜均匀性高的钙钛矿涂布装置,其特征在于,所述伸缩吸附单元包括固定在移动件上的支架,支架朝向工作台面的一侧固定有伸缩件,伸缩件的另一端固定有安装架,安装架上两端均设置有吸附件。

4.根据权利要求3所述的成膜均匀性高的钙钛矿涂布装置,其特征在于,所述吸附件通过软管与泵体相连接。

5.根据权利要求3所述的成膜均匀性高的钙钛矿涂布装置,其特征在于,所述存放块和堆积块的宽度均大于两侧吸附件之间的间距。

6.根据权利要求1所述的成膜均匀性高的钙钛矿涂布装置,其特征在于,所述存放块与板块、堆积块与板块之间设置有预定间距。