1.纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：包括飞秒激光器(2)、纳秒激光器(3)、聚焦透镜(5)、透明工件(6)、抛光靶材(8)、工作台(9)和夹具(10)；该抛光靶材(8)装设在工作台(9)上，该透明工件(6)装设在夹具(10)且透明工件(6)和抛光靶材(8)上下布置；该纳秒激光器(3)发出纳秒激光，该纳秒激光经聚焦透镜(5)、透明工件(6)聚焦轰击抛光靶材(8)以产生金属等离子体团，金属等离子体团转移至透明工件(6)背面并反射刻蚀透明工件(6)正面以出现石墨化刻蚀；该飞秒激光器(2)发出飞秒激光，该飞秒激光经聚焦透镜(5)聚焦于透明工件(6)并去除出现的石墨化刻蚀。

2.根据权利要求1所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：还包括扫描振镜(4)，该飞秒激光和纳秒激光都经扫描振镜(4)照射至聚焦透镜(5)。

3.根据权利要求1所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：还包括电脑控制系统(1)和脉冲信号协调发生器(11)，该电脑控制系统(1)连接脉冲信号协调发生器(11)，该脉冲信号协调发生器(11)连接飞秒激光器(2)和纳秒激光器(3)。

4.根据权利要求1所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：该工作台(9)为可升降工作台，该夹具(10)为可升降夹具(10)且设直线电机，通过直线电机控制夹具(10)升降。

5.根据权利要求4所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：还包括电脑控制系统(1)和相机(7)，该电脑控制系统(1)连接相机(7)、工作台(9)和夹具(10)，依据相机(7)拍摄的抛光靶材(8)和透明工件(6)之间隙分布变化情况调整工作台(9)和夹具(10)中至少之一位置，保证抛光靶材(8)和透明工件(6)之间隙为定值以使聚焦焦点始终在抛光靶材(8)上。

6.根据权利要求1所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：该透明工件(6)和抛光靶材(8)上下平隔布置。

7.根据权利要求6所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：该透明工件(6)和抛光靶材(8)上下平隔的间距为0.05‑0.5mm。

8.根据权利要求1所述的纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工装置，其特征在于：该抛光靶材(8)材质由高原子序数的元素组成。

9.纳秒激光诱导等离子体复合飞秒激光加工方法，其特征在于：包括：

将透明工件(6)安装在夹具(10)，将抛光靶材(8)安装在工作台(9)；

纳秒激光器(3)发出纳秒激光，纳秒激光经聚焦透镜(5)、透明工件(6)聚焦轰击抛光靶材(8)以产生金属等离子体团，金属等离子体团转移至透明工件(6)背面并反射刻蚀透明工件(6)正面，上升的透明工件(6)正面温度因累积足够热量在正面出现石墨化刻蚀；

飞秒激光器(2)发出飞秒激光，飞秒激光经聚焦透镜(5)聚焦于透明工件(6)并去除出现的石墨化刻蚀。