1.一种软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

a、取高硅钢母基合金以及铌铁合金和钴铁硅合金作为制备所述软磁性高硅钢极薄带的原材料，并使所述原材料满足以下合金元素质量百分比：C：0.005%‑0.0065%，Si：6.2%‑6.9%，Mn：0.12%‑0.18%，S：0.02%‑0.03%，Nb：0.02%‑

0.05%，Co：0.23%‑0.32%，P：＜0.005%，N：0.008%‑0.01%和余量的Fe；

b、先将所述高硅钢母基合金熔炼后，再加入所述铌铁合金和钴铁硅合金进行熔炼；然后采用真空单辊甩带法制备得到厚度为25μm‑50μm的高硅钢薄带前驱体；

c、将所述高硅钢薄带前驱体置于CaF2和TiB2偶合的涂层溶液中，得到包覆涂层的高硅钢薄带前驱体；

d、将包覆涂层的高硅钢薄带前驱体进行微波热压成型，得到成型产品；所述微波热压成型的温度为800℃‑900℃、压力为40MPa‑50MPa，所述成型产品的厚度为0.3mm‑0.32mm；

e、将所述成型产品依次通过酸洗和渗氮处理后，进行轧制和退火；所述轧制和退火的方法为：将所述成型产品依次进行一次退火、三道热轧、二次退火、三道温轧和三次退火；所述一次退火在真空条件下进行，所述一次退火的温度为750℃‑950℃；所述三道热轧在850℃‑1050℃下进行，每次压下量为15%‑20%；所述二次退火在氢气气氛中进行，所述二次退火的温度为1000℃‑1150℃；所述三道温轧在550℃‑650℃下进行，每次压下量为10%‑15%；所述三次退火在惰性气体气氛中进行，所述三次退火的温度为1050℃‑1250℃；

所述软磁性高硅钢极薄带的厚度为0.06‑0.12mm。

2.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤b中，所述高硅钢母基合金的熔炼温度控制在1150℃‑1250℃、熔炼次数为3‑5次。

3.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤b中，加入所述铌铁合金和钴铁硅合金进行熔炼的温度控制在1100℃‑1200℃、熔炼的次数为3‑5次。

4.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤b中，真空单‑4 ‑5辊甩带法中，所述单辊的表面线速为30m/s‑40m/s，真空度为1×10 Pa‑1×10 Pa。

5.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤c中，所述涂层溶液的制备方法为：每500mL甘油中加入18‑22g的CaF2和28‑32g的TiB2纳米粉末混合均匀，得到所述涂层溶液。

6.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤c中，所述高硅钢薄带前驱体置于CaF2和TiB2偶合的涂层溶液中的保持时间为3min‑6min，且每间隔

1min‑2min搅拌一次。

7.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤d中，所述酸洗的方法为：将所述成型产品置于3.5wt.%‑4.5wt.%的盐酸溶液中浸泡1min‑2min；

和/或步骤d中，所述渗氮的温度为800℃‑950℃、时间为1min‑2min。

8.如权利要求1所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法，其特征在于：步骤d中，所述一次退火的时间为2min‑5min；

和/或步骤d中，所述二次退火的时间为2min‑5min；

和/或步骤d中，所述三次退火的时间为3min‑5min。

9.权利要求1‑8任一项所述的软磁性高硅钢极薄带的制备方法制得的软磁性高硅钢极薄带。