1.一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于：包括Zr合金基体预处理和沉积Cr涂层，所述沉积Cr涂层是电弧离子镀进行沉积，电弧离子镀中靶电流为80 100A，偏~

压为‑150 ‑200V，每沉积1h，将偏压调至600 650V，保持3 5min，沉积过程中采用阳极层离~ ~ ~

子源进行辅助沉积。

2.如权利要求1所述的一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于：所述沉积温度为220 300℃，沉积时间为6 8h，沉积压强为0.5 1Pa。

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3.如权利要求1或2所述的一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于：所述阳极层离子源功率为0.8 1kw，频率为150 200kHz。

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4.如权利要求1‑3任一项所述的一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于：所述Zr合金预处理依次为打磨、抛光、清洗和离子源溅射，其中离子源预溅射是调节真‑3

空至3～5×10 Pa，通入Ar，使得气压达到2 3Pa，调节偏压为‑800V，离子源功率为2kw，溅射~

时间为20 30min。

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5.如权利要求4所述的一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于：所述打磨是依次采用100#、400#、1000#和2000#的SiC砂纸对Zr合金基体表面进行打磨。

6.如权利要求4或5所述的一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于：所述抛光是将打磨后的Zr合金基体依次采用粒度为1.5μm的金刚石抛光液和粒度为0.06μm的SiO2悬浊液进行抛光。

7.一种核用Zr合金表面的Cr涂层的制备方法，其特征在于，按如下步骤进行：步骤1：Zr合金基体预处理

（1）依次采用100#、400#、1000#和2000#的SiC砂纸对Zr合金基体表面进行打磨；

（2）将打磨后的Zr合金基体依次采用粒度为1.5μm的金刚石抛光液和粒度为0.06μm的SiO2悬浊液进行抛光，然后依次用丙酮、无水乙醇进行超声清洗10min，然后吹干；

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（3）将Zr合金基体置于电弧离子镀炉内，调节真空至3～5×10 Pa，通入Ar，使得气压达到2 3Pa，调节偏压为‑800V，离子源功率为2kw，溅射时间为20 30min；

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步骤2：沉积Cr涂层

将Zr合金基体加热至220 300℃，通入Ar，Ar流量为100 120sccm，调节沉积压强为0.5~ ~ ~

1Pa，以Cr靶作为阴极，靶电流为80 100A，调节偏压为‑150 ‑200V，进行沉积6 8h，每隔1h，~ ~ ~

调节偏压至600 650V，保持3 5min，然后恢复至原偏压，整个沉积过程中采用阳极层离子源~ ~

进行辅助沉积，离子源功率为0.8 1kw，频率为150 200kHz，沉积结束后，沉积了Cr涂层的Zr~ ~

合金基体随炉冷却。