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专利号: 202110849672X
申请人: 西安理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕
更新日期:2024-01-05
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种高均匀度单导流片式喷灌喷嘴,包括喷嘴本体,其特征在于:所述喷嘴本体的内部为空心体;所述喷嘴本体包括均为空心结构的圆台嘴(4)和底座(3),所述圆台嘴(4)固定于所述底座(3)上,且所述圆台嘴(4)的底部外轮廓和所述底座(3)的顶部内轮廓相匹配;

所述圆台嘴(4)包括圆台体和用于分流的导流片(1);所述导流片(1)为弧形片状结构,所述导流片(1)的横截面和纵截面均为弧线;所述导流片(1)的一端固定于所述圆台体的出口处,所述导流片(1)的另一端为自由端;

所述底座(3)为空心圆柱体,所述底座(3)的内侧面设为螺纹状(2);

所述导流片(1)固定于圆台体的出口处的中间位置;

所述导流片(1)的长度为圆台体高度的1/4‑1/2;

所述导流片(1)的横向曲率以出口为基准面,所述导流片(1)与圆台体固定点的连线中点与圆台体的出口处中心的距离0.8mm‑1mm;

所述导流片(1)的纵向曲率为所述圆台嘴(4)由上至下1/3处半径的1/4‑1/2;

所述导流片(1)的厚度为1mm‑2mm。