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专利号: 2021101355010
申请人: 重庆邮电大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2024-04-26
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种MIMO阵列天线,其特征在于,包括多个边靠边排列的背腔式缝隙天线(1)和隔离介质(2),所述隔离介质(2)覆盖在所述多个边靠边排列的背腔式缝隙天线(1)的上方,用于隔离电磁波;所述隔离介质(2)包括依次叠放的,并且具有不同大小、不同厚度和不同介电常数的多个介质块;所述多个介质块分别为第一介质块(21)、第二介质块(22)和第三介质块(23),所述第一介质块(21)、第二介质块(22)和第三介质块(23)的大小依次减小,所述第一介质块(21)、第二介质块(22)和第三介质块(23)的厚度依次增大,所述第一介质块(21)、第二介质块(22)和第三介质块(23)的介电常数依次减小。

2.根据权利要求1所述的一种MIMO阵列天线,其特征在于,所述背腔式缝隙天线(1)具有十字型槽缝(3),所述十字型槽缝(3)使所述背腔式缝隙天线(1)具有双极化特性。

3.根据权利要求1所述的一种MIMO阵列天线,其特征在于,所述第一介质块(21)为底层介质块,所述第二介质块(22)为中间层,所述第三介质块(23)为顶层介质块。

4.一种MIMO阵列天线,其特征在于,包括多个边靠边排列的背腔式缝隙天线(1)和隔离介质(2),所述隔离介质(2)覆盖在所述多个边靠边排列的背腔式缝隙天线(1)的上方,用于隔离电磁波;所述隔离介质(2)为介电常数为4‑5且厚度为四分之一波长的单一介质块,所述单一介质块包括第一通孔区(24)和第二通孔区(25);所述第一通孔区(24)位于第二通孔区(25)的下方;所述第一通孔区(24)包括多个形状和大小相同的小通孔,且每个小通孔之间的间距相同;所述第二通孔区(25)包括多个形状和大小相同的大通孔,且每个大通孔之间的间距相同;所述第一通孔区(24)的多个小通孔横向设置,所述第二通孔区(25)的多个大通孔横向设置;所述第一通孔区(24)的通孔个数大于所述第二通孔区(25)的通孔个数。

5.一种MIMO阵列天线的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1:将多个背腔式缝隙天线边靠边排列,组合成为MIMO阵列天线;

步骤2:在所述MIMO阵列天线的上方覆盖隔离介质,得到具有高隔离度的MIMO阵列天线;

所述在所述MIMO阵列天线的上方覆盖隔离介质的方法为:将第一介质块、第二介质块和第三介质块按照底层为第一介质块,中间层为第二介质块,顶层为第三介质块的顺序依次叠放并覆盖在所述MIMO阵列天线的上方;所述第一介质块、第二介质块和第三介质块的大小依次减小,所述第一介质块、第二介质块和第三介质块的厚度依次增大,所述第一介质块、第二介质块和第三介质块的介电常数依次减小。

6.根据权利要求5所述的一种MIMO阵列天线的加工方法,其特征在于,在所述步骤1之前,在背腔式缝隙天线的谐振腔上方的金属壁上蚀刻十字型槽缝,使背腔式缝隙天线具有双极化特性。

7.一种MIMO阵列天线的加工方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1:将多个背腔式缝隙天线边靠边排列,组合成为MIMO阵列天线;

步骤2:在所述MIMO阵列天线的上方覆盖隔离介质,得到具有高隔离度的MIMO阵列天线;

所述在所述MIMO阵列天线的上方覆盖隔离介质的方法为:选择介电常数为4.4且厚度为四分之一波长的单一介质块作为隔离介质,将所述单一介质块分为第一通孔区和第二通孔区,所述第一通孔区位于第二通孔区的下方;在所述第一通孔区对所述单一介质块进行横向打孔,得到多个形状和大小相同的小通孔,且每个小通孔之间的间距相同;在所述第二通孔区对所述单一介质块进行横向打孔,得到多个形状和大小相同的大通孔,且每个大通孔之间的间距相同;所述第一通孔区的通孔个数大于所述第二通孔区的通孔个数。