1.一种双层带状氮化硼分级结构，其特征在于它呈双层带状，带宽范围为0.3～2μm，平均带宽为0.6～0.8μm，带长5～50μm，双层壁厚度为10～50nm；带状结构表面负载二级结构氮化硼纳米薄片，单个纳米薄片平均厚度为4～6nm，平均尺寸为40～60nm。

2.权利要求1所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于主要步骤如下：

1)将硼酸镁晶须置于管式炉中，在含氮气氛下升温至950～1150℃并保温1h～4h，经过酸洗提纯、抽滤，得到初产物；

2)将初产物置于在高温100～150℃下干燥10‑60min，即得到双层带状BN分级结构。

3.根据权利要求2所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于所述硼酸镁晶须置于放有镍片基底的氧化铝方舟上。

4.根据权利要求2所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于所述硼酸镁晶须的直径0.3～2μm，长5～50μm。

5.根据权利要求2所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于所述含氮气氛为N2气氛、NH3气氛、N2和H2的混合气氛中的一种。

6.根据权利要求5所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于所述含氮气氛的流量为50ml/min～200ml/min。

7.根据权利要求2所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于步骤(1)中的保温时间3h，保温温度为1100℃。

8.根据权利要求2所述的双层带状氮化硼分级结构的制备方法，其特征在于所述酸洗提纯方法为：将保温所得固体产物分散在于去离子水中，加入酸，于50‑80℃下加热搅拌5～

8h，然后经抽滤、洗涤，即可完成提纯。