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专利号: 202022652907X
申请人: 沈阳市裕仁机械设备有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
专利领域: 工程元件或部件;为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施;一般绝热
更新日期:2025-04-15
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.真空室密封机构,包括真空室本体(1),其特征在于:所述真空室本体(1)的顶部通过螺丝(3)固定连接有密封盖(4),且密封盖(4)的底部设置有密封圈(2),所述密封圈(2)包括基底层(21),所述基底层(21)的顶部通过天然橡胶粘接有第一密封层(22),所述第一密封层(22)包括硅胶层(221)和氟橡胶层(222),所述基底层(21)的底部通过天然橡胶粘接有第二密封层(23),所述第二密封层(23)包括果冻硅胶层(231)和泡沫橡胶层(232)。

2.根据权利要求1所述的真空室密封机构,其特征在于:所述氟橡胶层(222)位于基底层(21)的顶部,所述氟橡胶层(222)的顶部与硅胶层(221)的底部通过天然橡胶粘接。

3.根据权利要求1所述的真空室密封机构,其特征在于:所述硅胶层(221)的厚度和氟橡胶层(222)的厚度相同,且第一密封层(22)的厚度为基底层(21)厚度的0.5‑0.6倍。

4.根据权利要求1所述的真空室密封机构,其特征在于:所述果冻硅胶层(231)位于基底层(21)的底部,所述泡沫橡胶层(232)的底部与泡沫橡胶层(232)的顶部通过天然橡胶粘接。

5.根据权利要求1所述的真空室密封机构,其特征在于:所述果冻硅胶层(231)的厚度和泡沫橡胶层(232)的厚度相同,且第二密封层(23)的厚度为基底层(21)厚度的0.4‑0.5倍。