1.一种光路调制器件，其特征在于，包括：

基底；

光路调制元件，形成在所述基底上方；

光阻隔层，位于所述光路调制器件和所述基底之间，所述光阻隔层开设有光通孔以形成光线透过区域和光线阻隔区域，其中，所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影覆盖所述光通孔，以对穿过所述光通孔的光线进行光路调制；

滤光层，所述滤光层至少覆盖所述光阻隔层的光线透过区域，用于对所述光路调制元件处的具有特定波长的光线进行选择性透过。

2.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，所述光路调制器件包括至少一个透镜，且所述至少一个透镜的光心在所述光阻隔层的投影与所光通孔的中心相互重合。

3.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层覆盖在所述基底表面，并位于所述基底和所述光阻隔层之间，所述光路调制元件形成在所述光阻隔层上方并填充到所述光阻隔层的光通孔，其中所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影面积大于或等于所述光通孔的开口面积以完全覆盖所述光通孔。

4.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层覆盖在所述基底表面，所述光路调制元件形成在所述光阻隔层的光线透光区域上方，并填充到所述光阻隔层的光通孔，所述滤光层覆盖所述光路调制元件以及所述光阻隔层的光线阻隔区域。

5.根据权利要求2所述的光路调制器件，其特征在于，所述光阻隔层形成在所述基底表面，所述滤光层设置在所述光阻隔层上方，并且覆盖所述光阻隔层的光线透光区域和光线阻隔区域，所述光路调制元件设置在所述滤光层的上方并完全覆盖所述光阻隔层的光通孔。

6.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层同时覆盖所述光阻隔层的光线透过区域和光线阻隔区域，以与所述光阻隔层相互配合对杂散光线进行二次阻隔。

7.根据权利要求1所述的光路调制器件，其特征在于，所述基底为可透光基底，所述可透光基底在可见光范围以及近红外波段具有高透过率。

8.根据权利要求7所述的光路调制器件，其特征在于，所述滤光层的透光波段范围包括

700nm至1100nm，且所述光阻隔层为对波段范围为300nm至1100nm的光线具有低透过率的膜层。

9.一种光学设备，其特征在于，至少包括上述权利要求1-8任一项所述的光路调制器件。

10.一种指纹识别传感器，其特征在于，包括光路调制器件，用于对特定波长的光线进行选择性收集和光路调制，所述光路调制器件包括：光路调制元件；

光阻隔层，所述光阻隔层开设有光通孔以形成光线透过区域和光线阻隔区域，其中，所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影覆盖所述光通孔，以对穿过所述光通孔的光线进行光路调制；

滤光层，所述滤光层至少覆盖所述光阻隔层的光线透过区域，用于对所述光路调制元件处的具有特定波长的光线进行选择性透过，其中，所述滤光层和所述光路调制元件集成在所述光路调制器件，以在单一的光路调制器件实现对所述特定波长的光线进行选择性透过和光路调制。

11.根据权利要求10所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述特定波长的光线包括近红外波段的光线或者可见光范围的光线。

12.根据权利要求11所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述光路调制器件包括至少一个透镜，且所述至少一个透镜的光心在所述光阻隔层的投影与所光通孔的中心相互重合。

13.根据权利要求12所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述光路调制器件包括基底，所述滤光层覆盖在所述基底表面，并位于所述基底和所述光阻隔层之间，所述光路调制元件形成在所述光阻隔层上方并填充到所述光阻隔层的光通孔，其中所述光路调制元件在所述光阻隔层的投影面积大于或等于所述光通孔的开口面积以完全覆盖所述光通孔；或者，所述光阻隔层覆盖在所述基底表面，所述光路调制元件形成在所述光阻隔层的光线透光区域上方，并填充到所述光阻隔层的光通孔，所述滤光层覆盖所述光路调制元件以及所述光阻隔层的光线阻隔区域；或者，所述光阻隔层形成在所述基底表面，所述滤光层设置在所述光阻隔层上方，并且覆盖所述光阻隔层的光线透光区域和光线阻隔区域，所述光路调制元件设置在所述滤光层的上方并完全覆盖所述光阻隔层的光通孔。

14.根据权利要求10所述的指纹识别传感器，其特征在于，所述滤光层同时覆盖所述光阻隔层的光线透过区域和光线阻隔区域，以与所述光阻隔层相互配合对杂散光线进行二次阻隔。

15.一种电子装置，其特征在于，包括如权利要求10至14中任一项所述的指纹识别传感器。