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专利号: 202011338842X
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种实现液滴回弹的凹槽状超疏水圆锥台阵列表面,其特征在于:包括两级微结构超疏水柔性薄膜(1)和半圆型凹槽状底座(2),两级微结构超疏水柔性薄膜(1)以粘贴的方式连接在半圆型凹槽状底座(2)的半圆型凹槽表面,两级微结构超疏水柔性薄膜(1)包括由圆锥台阵列构成的一级微结构和由二氧化钛纳米颗粒构成的二级微结构,一级微结构贴附在半圆型凹槽状底座(2)的半圆型凹槽表面上,一级微结构的表面上附着有二级微结构。

2.根据权利要求1所述的一种实现液滴回弹的凹槽状超疏水圆锥台阵列表面,其特征在于:所述的一级微结构的材质为聚二甲基硅氧烷PDMS或硅橡胶Ecoflex,二级微结构是二氧化钛颗粒、无水乙醇和十八烷基三甲氧基硅烷制成悬浊液后通过旋涂制得。

3.根据权利要求1所述的一种实现液滴回弹的凹槽状超疏水圆锥台阵列表面,其特征在于:所述的所述的二级微结构的尺寸是一级微结构中圆锥台尺寸的万分之一。

4.根据权利要求1所述的一种实现液滴回弹的凹槽状超疏水圆锥台阵列表面,其特征在于:所述的半圆型凹槽状底座(2)的材质为树脂。

5.根据权利要求1所述的一种实现液滴回弹的凹槽状超疏水圆锥台阵列表面,其特征在于:所述的两级微结构超疏水柔性薄膜(1)的厚度T=100μm‑200μm。

6.根据权利要求1所述的一种低韦伯数下实现液滴超快回弹的凹槽状超疏水圆锥台阵列表面,其特征在于:通过调控所述的半圆型凹槽状底座(2)的半圆型凹槽的曲率实现对液滴接触时间的主动控制。