1.一种纳米氢氧化镍铁薄膜，其特征在于：所述纳米氢氧化镍薄膜分布有三维、双连续孔结构且化学成分为NixFey(OH)2；其中，x+y＝1，x>0，y>0。

2.一种如权利要求1所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：S1、制备镓镍合金；

S2、将步骤S1制备的镓镍合金通过脱合金法制得表面含有纳米结构Ni的Ni薄膜，通过循环伏安法将表面的纳米结构Ni氧化成Ni(OH)2，得Ni-Ni(OH)2薄膜；

S3、将步骤S2制得的Ni-Ni(OH)2薄膜置于铁盐溶液中，反应后，得到所述纳米氢氧化镍铁薄膜，其中，所述纳米结构Ni具有三维、双连续结构。

3.根据权利要求2所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S1中制备镓镍合金，具体包括：将镓熔化后涂覆于镍片上，100～250℃下退伙处理，得到Ga-Ni合金；优选地，所述退伙处理的时间为1～6h。

4.根据权利要求2所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S2中脱合金法包括以下步骤：将Ga-Ni合金置于碱性溶液中进行腐蚀处理2～10h。

5.根据权利要求2至4任一项所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S2中循环伏安法包括以下步骤：在碱性环境下，将表面含有纳米结构Ni的Ni薄膜作为工作电极，在1.0～1.6V的电压范围内，将表面的孔状纳米结构Ni氧化成Ni(OH)2。

6.根据权利要求5所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：所述循环伏安法中扫描速度为20～100mV/s，循环圈数是10～100；优选地，扫描速度为20～80mV/s。

7.根据权利要求2至4任一项所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S3中铁盐中Fe3+的浓度在0.1～1mol/L之间。

8.根据权利要求2至4任一项所述的纳米氢氧化镍铁薄膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S3还包括将Ni-Ni(OH)2薄膜置于无水乙醇中超声除去杂质后再置于铁盐溶液中的步骤；优选地，所述超声时间为30～60min。

9.一种如权利要求1所述的纳米氢氧化镍铁薄膜在析氧反应催化剂制备中的应用。

10.一种如权利要求1所述的纳米氢氧化镍铁薄膜在氢气制备中的应用。