1.金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述方法包括：

a.间歇式等离子刻蚀：在真空度1～10-2Pa，用流量50～4000sccm的Ar直接对金属板材进行间歇式等离子刻蚀，至金属板材的温度达到200～1200℃停止间歇式等离子刻蚀；优选金属板材的温度达到300～800℃停止间歇式等离子刻蚀；

b.镀膜：a步骤停止间歇式等离子刻蚀后，立即在金属板材上镀膜；

所述间歇式等离子刻蚀的每次溅射刻蚀时间为1～60s，停机冷却时间10～3600秒；

所述镀膜优选采用电子束蒸发镀膜。

2.根据权利要求1所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述金属板材的幅宽100～1500mm、厚度0.1～0.5mm。

3.根据权利要求1或2所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述金属板材为不锈钢板，优选为ST12、Q235或410钢板。

4.根据权利要求1～3任一项所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述等离子刻蚀的磁场强度条件为：10～60mT；a步骤所述间歇式等离子刻蚀的电源正负脉冲占空比优选为40～80％。

5.根据权利要求1～4任一项所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述间歇式等离子刻蚀的靶基距为50～200mm。

6.根据权利要求1～5任一项所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述电源条件为：频率10～100KHz，工作电压200～1200V、电流5～80A。

7.根据权利要求1～6任一项所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述间歇式等离子刻蚀的电源正负脉冲占空比40％～80％。

8.根据权利要求1～7任一项所述的金属带材板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述间歇式等离子刻蚀的平均刻蚀深度3.9～8.6μm。

9.根据权利要求1～8任一项所述的金属带材板材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述间歇式等离子刻蚀的刻蚀速率为2.4～2.7nm/s。

10.根据权利要求1～9任一项所述的金属板材的表面镀膜方法，其特征在于，所述a步骤通入Ar前，控制真空度为10-3～10-4Pa。