1.金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，所述方法包括：

a.等离子刻蚀：在真空度1～10-2Pa，用流量50～4000sccm的Ar直接对金属带材进行等离子刻蚀，至金属带材的温度达到200～1200℃停止等离子刻蚀；优选金属带材的温度达到

300～800℃停止等离子刻蚀；

b.镀膜：a步骤停止等离子刻蚀后，立即采用电子束蒸发镀膜在的金属带材上镀膜。

2.根据权利要求1所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述金属带材的幅宽100～1500mm、厚度0.1～0.5mm。

3.根据权利要求1或2所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，所述金属带材为不锈钢片，优选为ST12、Q235或410。

4.根据权利要求1～3任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述等离子刻蚀的磁场强度条件为：10～60mT；a步骤所述等离子刻蚀的电源正负脉冲占空比优选为40～80％；a步骤所述等离子刻蚀功率优选为1～50KW。

5.根据权利要求1～4任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述等离子刻蚀的靶基距为50～200mm。

6.根据权利要求1～5任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述电源条件为：频率10～100KHz，工作电压200～1200V。

7.根据权利要求1～6任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述等离子刻蚀将金属带材基底清洁1～50nm。

8.根据权利要求1～7任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，a步骤所述等离子刻蚀所需要的放电宽度为：100～1500mm。

9.根据权利要求1～8任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，b步骤所述镀膜的镀膜金属为钛、镍、铬金属及其合金；所述镀膜金属的纯度优选为98～99.999％。

10.根据权利要求1～9任一项所述的金属带材的表面镀膜方法，其特征在于，所述金属带材的表面镀膜方法为连续镀膜，所述连续镀膜的金属带材走带速度为0.5～120m/min；

b步骤所述镀膜的真空度优选为10-1～10-3Pa；优选b步骤所述镀膜的镀膜功率不小于

40KW；

b步骤所述镀膜的镀膜厚度优选为0.01～200μm。