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专利号: 2020103253464
申请人: 杭州电子科技大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电子电路
更新日期:2025-05-20
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.非对称Chireix合成架构,其特征在于:包括第一支路和第二支路,所述第一支路设置第一功率放大器,所述第二支路设置第二功率放大器,所述第一功率放大器的输入端与第一信号相连接,所述第二功率放大器的输入端与第二信号相连接,所述第一信号和第二信号为非对称恒包络相位调制信号;所述第一功率放大器和第二功率放大器的输出端与非对称Chireix功率合成器相连接;

非对称Chireix功率合成器包括第一微带线TL非对称的恒包络相位调制信号的幅度不同,分别为V第五微带线TL

两支路的输出电流如式(3)所示:I1=Am1(sinφm1-jcosφm1)I2=A

其中A

根据式(3),阻抗用相位变量表示,如式(4)所示:将式(4)带入式(2)可以得出第五微带线TL第二微带线TL

其中,Y

2.根据权利要求1所述的非对称Chireix合成架构,其特征在于:第一微带线TL

3.根据权利要求1所述的非对称Chireix合成架构,其特征在于:第一功率放大器和第二功率放大器为开关类功率放大器。

4.非对称Chireix合成架构的设计方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:利用ADS软件模拟输入上下两路非对称恒包络相位调制信号;

步骤S2:根据应用需求选取第一功率放大器和第二功率放大器;

步骤S3:得出第五微带线TL

其中,R

其中A

步骤S3:根据晶体管的寄生参数,传统Chireix合成器两支路加入的对称电抗,以及非对称Chireix合成器额外增加的电抗,共同确定第一微带线TL步骤S4:计算得出第一微带线TL