1.一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像装置，其特征在于，包括依次设置的多波长复合光源、散射片、针孔、滤光片阵列以及图像传感器，待测样本放置于针孔和滤光片阵列之间。

2.根据权利要求1所述的一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像装置，其特征在于，所述散射片为50°散射角的工程散射片。

3.根据权利要求1所述的一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像装置，其特征在于，所述针孔紧贴在散射片背部，孔径尺寸为100μm。

4.根据权利要求1所述的一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像装置，其特征在于，所述待测样本与针孔之间的间隔为6-10cm。

5.一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像重构方法，其特征在于，采用如权利要求1所述的一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像，包括如下步骤：步骤1、记图像传感器采集所得图像Di位置的下采样光场强度图为Ii(x′，y′)((x′，y′)∈Di，i＝1，2，...，N)，N为波长的个数；

步骤2、对 进行上采样至与全部像素R相同大小，然后进行光波反向传播，结果记为物面光场的初始猜测00(x，y)；

步骤3、对物面光场On(x，y)光波正向传播，得到探测器面光场Ei，n(x′，y′)，其中，n为自然数，表示迭代次数，n＝0时为初始猜测；

步骤4、对探测器面光场Ei，n(x′，y′)进行探测器面更新，用Di像素位置的光场强度替换Ei，n(x′，y′)的振幅，其他位置不变， 得到更新后的探测器面光场E′i，n(x′，y，)；

步骤5、对更新后的探测器面光场E′i，n(x′，y′)执行光波反向传播，得到更新后的物面光场O′n(x，y)；

步骤6、上述步骤完成了对一个波长进行更新，令i＝i+1，重复上述步骤更新其他每个波长的光场强度图，每个波长的光场强度图更新完毕为完成一次迭代；

步骤7、令n＝n+1，重复步骤3～6，直到迭代次数达到预设的最大次数为止。

6.根据权利要求5所述的一种基于滤光片阵列的无透镜显微成像重构方法，其特征在于，步骤5得到更新后的物面光场O′n(x，y)后，对结果O′n(x，y)进行小波域的支持域更新，具体方法如下：(1)对O′n(x，y)进行小波变换，得到 (u，v)为小波域二维坐标；

(2)对 的振幅θ(u，v)进行物面小波域的支持域更新，记θ(u，v)中位数为m，θ(u，v)中大于m的区域记为稀疏支持域S，S内保持不变，S外执行以下更新：其中，β为调节参数，一般取0.7～0.9；

(3)将步骤(1)的结果 的相位保留，振幅替换为步骤(2)的结果θ′(u，v)，得到(4)对 应用小波逆变换，得到其中，W为二维小波变换，W-1为二维小波逆变换。