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专利号: 2019111754289
申请人: 嘉兴学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2024-11-18
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.微纳米材料镀膜设备,主要包括:电机A(1)、联轴器A(2)、承载盘(3)、限位通孔(301)、圆形安装通孔(302)、工件架(4)、环形圈(5)、环形槽(501)、限位柱(502)、环形弧形限位滑槽(503)、电机B(6)、联轴器B(7)、轴承(8)、主动齿轮(9)、环形齿条(10)、滚珠(11)、圆形块(12)、方形凸起(1201)、T型滑槽(1202)、连接轴(1203)、从动齿轮(13)、内夹持块(14)、弧形面结构(1401)、橡胶隔离层(1402)、T型滑块(1403)和弹簧(15);

其特征在于:所述电机A(1)通过联轴器A(2)固定连接有一块所述承载盘(3),且承载盘(3)顶端面呈环形阵列状共开设有六处所述圆形安装通孔(302);六处所述圆形安装通孔(302)内端均通过一个所述轴承(8)各转动连接有一组所述工件架(4),且工件架(4)经由圆形块(12)、从动齿轮(13)、内夹持块(14)和弹簧(15)组成;所述圆形块(12)内嵌安装在轴承(8)内圈,且圆形块(12)底端面轴心部位焊接有一根所述连接轴(1203);所述连接轴(1203)底端键连接有一个所述从动齿轮(13);所述圆形块(12)顶端面轴心部位设置有一块所述方形凸起(1201),且圆形块(12)外周面相对于方形凸起(1201)前端面和后端面部位均开设有一处与其处于同一水平的T型滑槽(1202);所述方形凸起(1201)前侧方和后侧方均设置有一块所述内夹持块(14),且两块所述内夹持块(14)分别与方形凸起(1201)前端面和后端面的相对面之间均通过两个所述弹簧(15)固定相连接;两块所述内夹持块(14)底端面均固定连接有一块所述T型滑块(1403),且两块所述内夹持块(14)均通过T型滑块(1403)与T型滑槽(1202)的滑动配合沿T型滑槽(1202)做前后往复运动;两块所述内夹持块(14)与方形凸起(1201)前端面和后端面的相背面均为弧形面结构(1401),且弧形面结构(1401)上贴附有一层所述橡胶隔离层(1402);所述承载盘(3)顶端面相邻边缘部位呈环形阵列状共开设有六处所述限位通孔(301),且六处所述限位通孔(301)与六处所述圆形安装通孔(302)之间呈间隔状分布。

2.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述承载盘(3)正下方设置有一块与其同轴线的环形圈(5),且承载盘(3)顶端面相邻边缘部位呈环形阵列状共焊接有六根所述限位柱(502)。

3.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:六根所述限位柱(502)相互间的间距及直径均与六处所述限位通孔(301)相互间的间距及直径相一致,故环形圈(5)通过六根所述限位柱(502)与六处所述限位通孔(301)的插接配合与承载盘(3)固定相连接。

4.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述环形圈(5)内端面中间部位开设有一处所述环形槽(501),且环形槽(501)内端顶侧面及底侧面中间部位均开设有一处所述环形弧形限位滑槽(503)。

5.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述承载盘(3)正下方还设置有一块与其同轴线的环形齿条(10),且环形齿条(10)位于环形槽(501)内部区域,但其并不与环形槽(501)内端面相接触。

6.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述环形齿条(10)顶端内壁及底端内壁均呈环形阵列内嵌转动连接有若干颗所述滚珠(11),当环形齿条(10)位于环形槽(501)内部区域状态下,该若干颗所述滚珠(11)分别与两处所述环形弧形限位滑槽(503)滑动内相切。

7.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述环形齿条(10)内外圈均为齿轮结构,且六组所述工件架(4)中的从动齿轮(13)均与环形齿条(10)内圈齿轮结构相互啮合。

8.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述电机A(1)右侧方设置有电机B(6),且电机B(6)通过联轴器A(2)固定连接有一块与环形齿条(10)内圈齿轮结构相互啮合的主动齿轮(9)。

9.根据权利要求1所述微纳米材料镀膜设备,其特征在于:所述主动齿轮(9)位于两组所述工件架(4)中间区域,且主动齿轮(9)不与该两组所述工件架(4)中的从动齿轮(13)相接触。