1.一种Ni-Pd-P非晶合金纳米线，其特征在于，化学组成为Ni：49.00～49.50at％；Pd：

49.00～49.50at％；P：1.00～2.00at％。

2.根据权利要求1所述的Ni-Pd-P非晶合金纳米线，其特征在于，直径为20～50nm，线长为1～8μm。

3.权利要求1～2任一项所述Ni-Pd-P非晶合金纳米线的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：以AAO模板为阴极，铂片为阳极，在电镀液中进行电沉积，得到所述Ni-Pd-P非晶合金纳米线；所述电镀液的溶质组成为：PdCl2 5.5～7.0g/L，NiSO4·6H2O 100～120g/L，H3PO3 45～60g/L，H3BO3 40g/L，乙二胺20～30g/L，柠檬酸钠40～50g/L。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述AAO模板的制备方法包括：将多孔氧化铝模板单面喷金，然后将喷金的一面与铜片固定连接，再用环氧树脂封装后，得到AAO模板。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述电镀液的pH值为4～5。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述电镀液的温度为50～55℃。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述电沉积的电流密度为0.1～1A/dm2。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述电沉积的时间为4～6h。