1.一种具有(400)晶面择优的铟锡氧化物在透明薄膜热电偶上的应用，其特征在于：利用直流脉冲磁控溅射的方法将具有(400)晶面择优的体心立方铁锰矿相多晶铟锡氧化物制成透明薄膜热电偶的一极，所述直流脉冲磁控溅射的占空比为10-40％。

2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：所述透明薄膜热电偶中铟锡氧化物的厚度≥300nm。

3.根据权利要求2所述的应用，其特征在于：所述铟锡氧化物的纯度为99.99％，其中：三氧化二铟的质量百分比为90wt.％，二氧化锡的质量百分比为10wt.％。

4.根据权利要求3所述的应用，其特征在于：所述直流脉冲磁控溅射的温度为自然室温。

5.根据权利要求4所述的应用，其特征在于：所述直流脉冲磁控溅射的工作气体为氩，氩的纯度为99.99％。