1.一种用于FP腔光纤声学传感器的内嵌式双层敏感膜，该FP腔光纤声学传感器包括毛细玻璃管、单模光纤和敏感膜，其中作为FP腔体的毛细玻璃管的一个环形端面与单模光纤的横截面连接，环形端面的外径和单模光纤的直径相等，该毛细玻璃管的另一个环形端面与将其覆盖的敏感膜固连；单模光纤的横截面中心和敏感膜的中心均在毛细玻璃管的轴线上，单模光纤的纤芯横截面和敏感膜作为FP腔体的两个腔镜，与毛细玻璃管的轴向成90°，形成FP腔干涉结构；其特征在于，该内嵌式双层敏感膜包括软膜和内嵌入软膜内表面的金属硬膜，金属硬膜与单模光纤的纤芯横截面相对设置，金属硬膜的直径与单模光纤纤芯横截面的直径相等，软膜的直径与毛细玻璃管环形端面的外径相等，所述金属硬膜由金或银制成，所述软膜为表面平整光洁的橡胶模或硅胶膜。

2.根据权利要求1所述一种用于FP腔光纤声学传感器的内嵌式双层敏感膜，其特征在于，所述软膜由PDMS制成。

3.根据权利要求1所述一种用于FP腔光纤声学传感器的内嵌式双层敏感膜，其特征在于，所述内嵌式双层敏感膜的厚度为0.5‑10μm，金属硬膜的厚度为10‑1000nm。

4.一种制备内嵌式双层敏感膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在基底上淀积一层氧化层作为牺牲层，在氧化层上旋涂一层光刻胶，高能辐射透过一掩膜板上特定图形对光刻胶曝光，用显影液去除曝光后性质发生改变的光刻胶，得到与掩膜版对应的图形形状的空槽，然后剩下的光刻胶作为掩膜，使用ICP对整个表面进行刻蚀，在氧化层上得到对应图形的标记，便于后续套刻步骤的定位；

S2、再次涂上光刻胶，利用另一个与步骤S1中掩膜版相同位置开设有相同标记图形的掩膜版进行定位，步骤S2中掩膜版还开设有圆形图案；经过与步骤1相同的曝光、溶解步骤，在光刻胶中形成一圆柱体空槽，通过电子束蒸发技术在氧化层上沉淀出一层金属硬膜；

S3、再次在金属硬膜周围涂上光刻胶，利用另一个与步骤S1中掩膜版相同位置开设有相同标记图形的掩膜版进行定位，步骤S3中掩膜版还开设有圆形图案，其圆心与步骤S2中掩膜版开设的圆形图案的圆心重合；经过与步骤1相同的曝光、溶解步骤，在光刻胶中形成一圆柱形凹槽，圆柱体凹槽底部为金属硬膜；将软膜溶液填充在圆柱形凹槽中，形成内嵌金属硬膜的软膜；

S4、去除光刻胶和基底，制得内嵌式双层敏感膜。

5.根据权利要求4所述的一种制备内嵌式双层敏感膜的方法，其特征在于，在步骤S2中，所述金属硬膜由金或银制成，金属硬膜的厚度为10‑1000nm。

6.根据权利要求4所述的一种制备内嵌式双层敏感膜的方法，其特征在于，在步骤S3中，所述软膜由PDMS制成，软膜的厚度为0.5‑10μm，表面平整光洁。