1.一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,包括机架、工件装卡台、十字滑轨工作台、移动支架、升降机构及研磨装置;所述工件装卡台及所述十字滑轨工作台均水平设置在机架上,所述工件装卡台用于装卡工件;所述十字滑轨工作台上设置有移动支架,所述移动支架能够在所述十字滑轨工作台上沿横向及纵向移动;所述移动支架的一侧设升降机构,所述研磨装置设置在所述升降机构上并能够升降移动;所述研磨装置由研磨电机、电机夹头、磁极盘及磁极组成,所述研磨电机通过所述电机夹头连接所述磁极盘,所述磁极盘的底部设有多个磁极,所述磁极按照N极、S极交替安装的方式安装在磁极盘上,磁极的底面开设多道纵横交错的磁极槽。
2.根据权利要求1所述的一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,所述十字滑轨工作台由上滑轨机构和下滑轨机构组成,其中上滑轨机构由上滑台、上滑台丝杠、上滑台电机及上滑块组成,所述上滑台电机固定在上滑台一端,上滑台丝杠与上滑台同向设置,上滑台电机驱动上滑台丝杠旋转并带动上滑块沿上滑台丝杠移动,上滑块与移动支架固定连接;所述下滑轨机构由下滑台、下滑台丝杠、下滑台电机及下滑块组成,所述下滑台与上滑台交错且垂直设置,下滑台电机固定在下滑台一端,下滑台丝杠与下滑台同向设置,下滑台电机驱动下滑台丝杠旋转并带动下滑块沿下滑台丝杠移动,下滑块与上滑台固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,所述上滑台的两侧设上滑台滑轨,移动支架的两侧设滑槽与上滑台滑轨配合滑动。
4.根据权利要求2所述的一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,所述下滑台的两侧设下滑台滑轨,上滑台的两侧设滑槽与下滑台滑轨配合滑动。
5.根据权利要求1所述的一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,所述升降机构由升降电机、升降丝杠、升降滑轨及升降滑块组成,所述升降电机固定在移动支架的顶部,升降丝杠的两侧分别设升降滑轨,升降电机驱动升降丝杠旋转并带动升降滑块沿升降滑轨上、下移动;研磨装置设置在升降滑块上。
6.根据权利要求1所述的一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,所述移动支架的顶部具有悬臂梁结构,升降机构固定在悬臂梁的外伸端,悬臂梁的下方设斜支撑。
7.根据权利要求1所述的一种用于大平面抛光的磁力研磨装置,其特征在于,所述磁极为永磁铁磁极。
8.一种基于权利要求1所述装置的用于大平面抛光的磁力研磨方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将工件装夹在工件装卡台上,将研磨液与磁性研磨粒子按1:1.5~3的比例均匀混合后吸附在磁极上;
(2)启动升降电机,由升降机构带动磁极装置上、下移动,调整磁极盘与工件的垂直距离,使磁极底面与工件上表面的间距保持在2~3mm;
(3)通过十字滑轨工作台调整研磨装置的水平位置,使磁极盘位于工件加工的起始位置;
(4)开启研磨电机,驱动磁极盘旋转,磁性研磨粒子在磁场的作用下,形成柔性磁力刷,研磨装置在十字滑轨工作台的带动下进行纵向进给,通过磁力刷的刮擦、翻滚作用对工件进行直线轨迹的表面抛光;一次纵向进给的行程大于工件的纵向长度;
(5)一次纵向进给结束后,研磨装置在十字滑轨工作台的带动下进行横向进给,进给长度小于等于磁极盘直径,然后沿第一次纵向进给的反方向进行第二次纵向进给;如此反复,完成工件表面直线轨迹的表面抛光;
(6)直线轨迹的表面抛光结束后,通过十字滑轨工作台驱动磁极盘同时沿纵向及横向移动,对工件表面进行S形轨迹的连续研磨抛光;
(7)根据加工精度要求设定工件表面抛光的类型和次数,工件表面抛光全部结束后,通过十字滑轨工作台和升降机构带动研磨装置回到初始位置,将工件从工件装卡台上卸下。
9.一种根据权利要求8所述的用于大平面抛光的磁力研磨方法,其特征在于,所述研磨液为水基研磨液。
10.一种根据权利要求8所述的用于大平面抛光的磁力研磨方法,其特征在于,所述磁性研磨粒子由铁基相和研磨相构成。