1.一种无铁磁性、高强度、强立方织构镍钨复合基带,包括带材基体和用磁控溅射的方法沉积在该带材基体表面上的一层Ni-9at.%W合金薄膜,所述带材基体是Ni-12at.%W铸锭经热轧、冷轧及再结晶处理后得到的带材,该带材的厚度为50μm,所述Ni-9at.%W合金薄膜的厚度为5nm~20nm。
2.一种如权利要求1所述的无铁磁性、高强度、强立方织构镍钨复合基带的制备方法,包括以下步骤:(1)合金铸锭的热轧
将采用熔炼获得的Ni-12at.%W镍钨合金铸锭热轧,热轧工艺为:开轧温度为1280℃~
1310℃,终轧温度为1000℃~1030℃,热轧变形量为89%~92%;
(2)热轧板的冷轧及再结晶热处理
将所得到的热轧板进行冷轧,轧至厚度为50μm,然后将冷轧带材在纯氢气中进行再结晶热处理,再结晶热处理工艺为:1280℃~1320℃保温5min;以及(3)溅射薄膜
在上述得到的Ni-12at.%W再结晶带材表面采用磁控溅射的方法沉积一层Ni-9at.%W合金薄膜,沉积工艺为:以熔炼法制备的Ni-9at.%W合金铸锭为靶材,溅射功率为190W~
210W,薄膜厚度为5nm~20nm。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其中,在步骤(2)中,再结晶热处理工艺为:1300℃保温5min。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其中,在步骤(3)中,所述熔炼法为真空感应熔炼法。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其中,在步骤(3)中,所述溅射功率为200W。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其中,在步骤(3)中,所述薄膜厚度为8nm。