1.一种激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，

首先，将对激光具有吸附作用的黏胶涂覆在工件的待清洗表面，通过黏胶将颗粒污物(4)包围，经过干燥后颗粒污物(4)将被固化在黏胶内；所述黏胶可以是丙烯酸环氧树脂，或是由丙烯酸环氧树脂和纳米碳颗粒按照体积比4:1混合而成的混合物，或是由丙烯酸环氧树脂、纳米硅酮粉、聚氨酯匀泡剂和纳米碳粉颗粒组成的混合物；

然后，利用脉冲激光束(1)辐照黏胶层表面，脉冲激光束(1)作用在黏胶层上，产生冲击波，在激光的瞬时热力作用下，黏胶层和固化在黏胶内的颗粒污物(4)开裂，形成粒度为100～300μm的碎片，并从工件的表面飞离，使颗粒污物(4)从工件的待清洗表面分离；工件经过高压气体吹洗之后，放入丙酮溶液进行超声清洗清除粘着在工件表面的残渣；

所述的脉冲激光束(1)的脉宽范围为10～300ns，激光束到达吸收层表面时的直径为50

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～60μm，功率密度范围为10～10GW/cm。

2.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述对激光具有吸附作用的黏胶由丙烯酸环氧树脂层(3)和涂覆在丙烯酸环氧树脂层(3)上的吸收层组成，所述吸收层在丙烯酸环氧树脂层(3)没有干燥之前涂覆，因此吸收层与丙烯酸环氧树脂层(3)粘结在一起。

3.如权利要求2所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述吸收层为黑色氨基漆(2)，厚度为5‑20μm；所述丙烯酸环氧树脂层(3)的厚度为50‑80μm。

4.如权利要求2所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述吸收层为黑色胶带(7)，所述黑色胶带(7)为黑色聚酯胶带；黑色聚酯胶带厚度为5‑10μm；所述丙烯酸环氧树脂层(3)的厚度为30‑100μm。

5.如权利要求4所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，在所述黑色胶带(7)上表面涂覆一层流动的水膜(8)；脉冲激光束(1)透过流动的水膜(8)，辐照在黑胶带表面，对整个硅片表面进行激光清洗。

6.如权利要求5所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述的流动的水膜(8)为去离子水膜，其厚度为1～1.5mm，流速为1cm/s～3cm/s；所述黑色胶带(7)为黑色聚酯胶带，厚度为5‑15μm；丙烯酸环氧树脂厚度为30‑100μm。

7.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述黏胶厚度为30‑100μm。

8.如权利要求7所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述黏胶固

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化后，采用功率密度为1×10～5×10GW/cm的脉冲激光束(1)辐照在激光具有吸附作用的黏胶表面烧蚀形成规则盲孔(11)阵列；再采用脉冲激光束(1)辐照在相邻的四个盲孔(11)中间位置即激光清洗点位(12)，对整个工件表面进行激光清洗。

9.如权利要求8所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，相邻盲孔(11)之间的距离d1和相邻激光清洗点位(12)的距离d2为100‑300μm，盲孔(11)的孔径为40‑

60μm、深度为20‑40μm。

10.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述对激光具有吸附作用的黏胶由以下涂覆材料涂覆而成，所述涂覆材料中丙烯酸环氧树脂的体积含量为60‑70％，纳米硅酮粉的体积含量为5‑

8％，聚氨酯匀泡剂的体积含量为6‑8％，纳米碳粉颗粒的体积含量为20‑25％；涂层厚度为

30‑100微米。

11.如权利要求1所述的激光清洗硅片或透镜表面颗粒的方法，其特征在于，所述的颗粒污物(4)的尺寸为0.5～50μm，所述丙酮溶液的体积百分浓度为50％。