1.一种多孔石墨烯作为通道与模板制备氯化亚铜晶体的方法，包括如下步骤：

(1)采用酸法刻蚀法制备可溶于常见溶剂中的多孔氧化石墨烯并均匀涂覆于光滑的铜箔表面，干燥后氧化石墨烯薄膜牢固贴附在铜箔表面，运用氢碘酸还原多孔氧化石墨烯得到多孔石墨烯覆盖的铜箔；

(2)采用易于挥发的液体作为溶剂配置一定浓度范围的氯化铜溶液，将氯化铜溶液涂覆于多孔石墨烯覆盖的铜箔表面，控制氯化铜溶液的添加量、温度、时间制备氯化亚铜片状纳米晶体材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中酸法刻蚀法中运用地氧化剂包括常用的氯酸盐、高锰酸盐、铁酸盐、铬酸盐等，运用的酸类包括浓硫酸、浓硝酸、高氯酸及其混合物等。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中常见溶剂的种类可以是水、乙醇、丙醇、二氯甲烷、汽油、丁醇、丙酮、乙醚、乙醛、石油醚等所有易于挥发的液体及其混合溶液，优选的溶液为乙醇、水或者两者的混合溶液。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中处于一定浓度范围的氯化铜溶液是指氯化铜的浓度应控制氯化铜在每种溶剂中的饱和溶解度以内，采用易于挥发的液体作为氯化铜溶液的溶剂，优选溶剂为乙醇，优选的浓度范围为0.01～1mol/L。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中氯化铜溶液涂覆于铜箔表面方法适用于滴涂、线棒涂膜法、喷涂等多种方法，优选的方法为线棒涂膜法。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中氯化铜溶液的添加量需根据环境温度和涂覆面积来定，优选的温度为0～20℃，优选的氯化铜溶液的添加量为0.5L/m2。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述将铜箔置于一定范围的温度下使反应发生，优选的温度为0～80℃，优选的时间为10～3600s。