1.一种制备自由态多面体纳米Ag颗粒的方法，其特征在于：首先，在聚酰亚胺基体上沉积Mo-Ag合金膜，形成Mo-Ag合金膜/聚酰亚胺基体的膜基体系；然后，对所制备的膜基体系进行氩气气氛保护退火处理，在合金膜表面上自形成纳米尺寸的纯银颗粒，即获得了纳米Ag颗粒/银合金膜复合结构；

然后，将制备的纳米Ag颗粒/银合金膜复合结构浸泡到装有无水乙醇的容器内，将容器置于超声波条件下超声震荡，超声震荡过程中，纳米Ag颗粒从合金膜表面脱离进入无水乙醇中，超声震荡15min后将薄膜/基体取出，然后让容器内的无水乙醇蒸发，即可获得自由态多面体纳米Ag颗粒；其中，形成Mo-Ag合金膜/聚酰亚胺基体的膜基体系的工艺为：将聚酰亚胺基体固定到磁控溅射镀膜机基片台上，采用射频磁控溅射法制备Mo-Ag合金膜，溅射靶材是由99.95at%Mo靶和覆盖在Mo靶上的99.99at%的Ag片组成的复合靶材，基片为500μm厚的聚酰亚胺薄膜，溅射过程中基片不加热；射频磁控溅射法制备工艺为：首先，对真空室抽真-4空，使真空度优于6×10 Pa，然后，通入高纯氩气使真空室的气压达到0.55Pa，接下来对复合靶材进行20min预溅射，预溅结束后，在聚酰亚胺基体上溅射沉积Mo-Ag合金膜，形成Mo-Ag合金膜/聚酰亚胺基体的膜基体系，其中，溅射功率为120W。

2.根据权利要求1所述的一种制备自由态多面体纳米Ag颗粒的方法，其特征在于：镀膜设备为JCP-350形高真空磁控溅射镀膜机，其中，通过改变Ag片的数量调控所制备的Mo-Ag合金膜中Ag的含量，制备Mo-5 15at%Ag合金膜，薄膜厚度为50-500nm。

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3.根据权利要求1所述的一种制备自由态多面体纳米Ag颗粒的方法，其特征在于：对所制备的膜基体系退火处理工艺为：氩气气氛保护退火，退火温度100-300℃、退火时间30-

60min，使得Mo-Ag合金膜/聚酰亚胺基体的膜基体系的表面自形成纳米尺度多面体纯银颗粒。

4.根据权利要求3所述的一种制备自由态多面体纳米Ag颗粒的方法，其特征在于：纳米尺度的纯银颗粒，其尺度控制通过改变Mo-Ag合金膜中的Ag含量、退火温度或薄膜厚度的工艺参数调控Ag颗粒的尺寸。