1.一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO2 65～70％、Al2O3 16～20％、Fe2O3 2～

3％、TiO2 0.2～0.4％、CaO 0.7～0.8％、K2O 2～2.5％、SnO2 2～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；

(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO265～72％、Al2O3 18～22％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 

0.03～0.05％、CaO 2～3％、ZrO2 0.1～0.2％、K2O 1.5～2.0％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；

(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 68～73％、Al2O3 13～17％、Fe2O3 0.1～0.15％、TiO2 

0.02～0.04％、CaO 3～5％、K2O 0.4～0.5％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；

(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；

(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为

1150～1200℃。

2.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO2 69％、Al2O3 18％、Fe2O3 2.5％、TiO2 0.3％、CaO 0.75％、K2O 

2.2％、SnO2 2.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。

3.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为：SiO2 70％、Al2O3 20％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.04％、CaO 2.56％、ZrO2 

0.15％、K2O 1.8％、SnO2 2.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比。

4.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 69.2％、Al2O3 15％、Fe2O3 0.12％、TiO2 0.03％、CaO 4％、K2O 0.45％、SnO2 

2.2％，烧失量IL为9％，各成分的百分比为质量百分比。

5.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(4)中的丝网印刷，包括用100目全通网和100目效果网，在通过基础色网以后，采用三道全通网和一道效果网。

6.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；

其中，所述软质原料为高铝泥2～3％、水洗泥7.2～7.8％、博罗泥1.7～2.2％、惠东精选泥2.8～3.2％、膨润土1.2～1.7％、65#水洗泥6.2～6.8％；硬质原料为中山石粉15～

18％、盛发石粉12～15％、高铝钾砂4～6％、氧化锡4～5％、东平砂28～32％、新丰石粉2.5～3.0％、滑石粒2.5～3.0％，各成分的百分比为质量百分比。

7.根据权利要求6所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述软质原料为高铝泥

2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17.5％、盛发石粉14.5％、高铝钾砂5％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉

2.7％、滑石粒2.8％，各成分的百分比为质量百分比。