1.一种太阳能电池氧化硅层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将硅片置于混合酸液中进行氧化处理，所述混合酸液包括硝酸、硫酸，所述硝酸的体积份数为50～90份，所述硫酸的体积分数为10～50份。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述混合酸液还包括乙酸，所述乙酸的体积份数为1～10份。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述硝酸的体积份数为75～80份，所述硫酸的体积份数为20～25份，所述乙酸的体积份数为2～5份。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将硅片置于混合酸液中前对硅片进行预处理，所述预处理包括：采用RCA标准清洗法清洗硅片；

采用HF去除硅片表面的原生氧化层。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化处理的处理温度为10℃～

120℃。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化处理的处理时间为1min～

30min。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化处理为将硅片置于混合酸液中室温下浸泡2min～4min。

8.一种太阳能电池，其特征在于，所述太阳能电池包括由权利要求1至6任意一项所述的制备方法制备的氧化硅层。

9.根据权利要求8所述的太阳能电池，其特征在于，所述氧化硅层的厚度为0.8nm～

5.0nm。

10.根据权利要求8所述的太阳能电池，其特征在于，所述氧化硅层的厚度为1.2nm～

2.0nm。