1.一种太阳能电池氧化硅层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将硅片置于混合酸液中进行氧化处理，包括将所述硅片置于所述混合酸液中浸泡2min～4min，所述混合酸液由硝酸、硫酸和乙酸组成，所述硝酸的体积份数为50～90份，所述硫酸的体积分数为10～50份，所述乙酸的体积份数为1～10份，所述硝酸的浓度为68％，所述硫酸的浓度为98％。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述硝酸的体积份数为75～80份，所述硫酸的体积份数为20～25份，所述乙酸的体积份数为2～5份。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将硅片置于混合酸液中前对硅片进行预处理，所述预处理包括：采用RCA标准清洗法清洗硅片；

采用HF去除硅片表面的原生氧化层。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化处理的处理温度为10℃～

120℃。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化处理的处理时间为1min～

30min。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将硅片置于混合酸液中进行氧化处理在室温下进行。

7.一种太阳能电池，其特征在于，所述太阳能电池包括由权利要求1至6任意一项所述的制备方法制备的氧化硅层。

8.根据权利要求7所述的太阳能电池，其特征在于，所述氧化硅层的厚度为0.8nm～

5.0nm。

9.根据权利要求7所述的太阳能电池，其特征在于，所述氧化硅层的厚度为1.2nm～

2.0nm。